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AD喷涂技术 孙福．李京龙 (西北工业大学摩擦焊接陕西省重点实验室，710072) 佐野三郎，明渡纯 (产业技术综合研究所，名古屋463—8560，日冬) 摘要：AD喷涂(Aemsol DepositionMethod)是一种新近开发的表面涂层制备方法，属 于熟喷涂技术范畴。AD喷涂由低真空沉积室，喷咀，粉末雾化室，机械真空泵等组成。AD 喷涂具有沉积温度低(室温)，沉积率高．涂层密度高，结合强度高等优点。AD喷涂的一 成分均匀，且由于沉积中的液相烧结机理而致密化。退火处理可以很好地提高PZT涂层的 铁电特性。载流气体种类对PZT涂层的结合强度没有明显影响。 关键词：AD喷涂，MEMS，PZT,冷喷涂，热喷涂 前言 气浮沉积法简称ADM或AD喷涂(AerosolMethod)，是新兴发展起来的表 Deposition 面涂层制各方法，是在室温和低真空环境下，利用高速气流吹浮、雾化并加速超细喷涂粒子， 然后高速沉积到洁净的基体表面形成涂层|II．AD喷涂可以归类为冷喷涂方法(cold Spray)， 它们都属于热喷涂(Thermal Spray)技术范畴。但AD喷涂可以制备1岍以上的涂层，弥 补了火焰喷涂、等离子喷涂和电弧喷涂等热喷涂方法通常只能制备数十Bm-lmm的厚涂层 的不足。1998年，日本学者将气体沉积法(GasDepositionMethod)应用于微结构体的制造翻。 AD喷涂就是在这样的背景下，于1999年由日本的明渡纯(Jun Akedo)博士发展完善的。 目前，AD喷涂在许多领域中得到了探索性应用，特别是在微机电系统(MEMS)中，用于 铁电涂层胄0备。铁电涂层(薄膜)一般采用溶胶一凝胶、溅射等方法制各。这些方法虽然可以 满足一定的生产要求，但也伴随着生产温度离、效率低、薄膜易开裂等缺点。AD喷涂制各 的铁电涂层具有沉积温度低．沉积率高，涂层密 度高(可达母材密度的95％)．效率高(101．tmlmin 以上)，结合强度高(20MPa以上)。涂层厚度 范围大等优点．显示出很好的应用前景。 AD喷涂设备与工艺 AD喷涂的设备组成如图1所示。包括气瓶、 流量计、气浮雾化室、过滤器，喷咀、低真空沉 积室、真空泵、三维平台构成，此外还包括计算 图l AD喷涂设备构成简图m 机测量及控制系统． 首先．高速气流接入粉末雾化室内，使粉末吹浮并雾化。为了达到很好的雾化效果，雾 化室需要一定的辅助振动。然后雾化的粉末随高速气流一起流动，经过滤器过滤后，通过喷 咀喷射沉积到真空室内的基体表面，最终得到需要的高密度的涂层。在沉积室内，工件安装 在三维坐标平台上，以实现与喷嘴的相对运动。在整个过程中，高速气流是利用气瓶与真空 室内的压差产生，可使粉末微粒子的速度达到每秒数百米。表l列出了一组典型的工艺参数。 表l AD喷涂的一组典型的工艺参数14J 沉积室压力 50～lxl03Pa 沉积室压力 1×10L8x103Pa 喷咀尺寸 5minx0．3mm 10mmx0．4mm 送粉气体种类 He，Air 喷嘴与基体的相对速度 0．125一I．25mm／min 喷咀到基体的距离 l一20mm