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- 2017-03-20 发布于湖北
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一、 与 的关系 第四节 简并半导体 掺杂浓度低 费米能级处于禁带中 掺杂浓度很高 费米能级与导带底或价带顶重合, 甚至进入导带或价带 重掺杂 轻掺杂 用费米函数分析载流子分布 载流子的简并化 简并半导体 用玻耳兹曼函数 分析载流子分布 非简并半导体 * * 第四章 平衡状态下的半导体 第一节 半导体能带结构 半导体能带特点:T=0K时,最高能带满,以上空。 由价电子填充 价带 Ev T≠0K,电子激发跃迁 结果:最高能带出现空位(空穴) 上面空带有电子 由激发电子填充 导带 Ec 实际应用,只要考虑能带极值附近的关系 设导带底位于 导带底的能量 各向同性的晶体 二、K空间等能面 等能面: 空间能量相同的点构成的曲面 半径: 的球面。 各向异性的晶体,能带极值 三、常见半导体的能带结构 1、硅和锗的能带结构 导带 Si: 极小值在100六个等价方向上, 极值附近等能面为沿100方向 旋转的旋转椭球面, 导带极值位于100方向的布里 渊区中心到边界的0.85倍处。 Ge: 导带极小值在111布区边界, 极值附近等能面为沿111方向 旋转的8个旋转椭球面。 价带 价带顶位于 ,有三个带。 两个最高的在 处简并,
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