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OLED器件实验制备系统-tft
OLED 器件实验制备系统
A. 概述
设备包含一个完整的高真空规格不锈钢制程腔体含冷冻式泵浦之真空抽气系统以及UV 封
装系统;设备操作控制系统包含:膜厚监视器、真空计、蒸镀电源控制系统、氮气手套箱
以及系统状态监视控制屏幕;蒸镀制程腔体内可容纳十组蒸镀源其中包含:七组有机蒸镀
源、三组金属用蒸镀源;多功能型基板载具。
B. 设备规格
(1) 一次承载10 片40mmX40mm 的玻璃基板。
(2) 真空狀态下,可旋转并调控转速(5~50 rpm) 。
(3) 单片玻璃基板最大蒸镀范围以试片中心为准,直径30mm 。
(4) 可在真空狀态下切换Mask 。
(5) 玻璃基板载具可侧移到氮气手套箱处进行载卸玻璃基板。
(6) 可以拆下基板载具换成其它基板尺寸的载具。
(7) 真空抽气速率:ATM ~ 5x10-6 torr ≦30 min 。
(8) 终极真空压力:≦8.0 x 10-7 torr ≦24 hr 。
(9) 膜厚均匀性 : ±5% ,量测Alq3 1000? ,直径34mm 。计算公式: (最大值-最小值)/
(最大值+最小值)X100%
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