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SFT no.29 介绍 SFT9500 的极薄膜 Au 镀层的 测量事例 2008.7 Copyright Hitachi Instruments (Shanghai) Co., Ltd. All rights reserved. ■ 1 上海浦东新区张江高科技园区碧波路690号2号楼102室（201-203） TEL: (86)-21-5027-3533 FAX: (86)-21-5027-3733 1. 前言 近年来随着科技的进步，产品的小型化?镀层厚 度的超薄膜化也进步了，特别是镀金层厚度也达到 了纳米等级。由于膜厚变薄了，荧光X射线的测量 灵敏度不足，测量就变得困难了。因此，对于以往 仪器测量困难的纳米等级的膜厚管理，在这里介绍 使用配备有高计数率半导体检测器的SFT9500 的 测量事例。 2. 实验 对测量样品为多用于Au/Pd/Ni/Cu 这些闪镀层 的引线架和标准物质进行讨论。由于同时测量 Au/Pd/Ni 3 层，所以使用的测量方法是薄膜FP法。 表1为此时的测量条件，表2为测量用的标准物质。 测量时间各为10秒、30秒、60秒，分别进行重复20 次测量。 表1 Au/Pd/Ni镀层测量条件 仪器 SFT9500 分析方式 薄膜 FP 法 X 射线照射直径 φ0.1mmφ 管电压 30KV 管电流) 1mA 1 次滤波器 OFF Au 分析线 Lα Pd 分析线 Lα Ni 分析线 Kα Cu 分析线 Kα 表2 标准物质 元素 厚度 Au 0.045 μm Pd 0.051 μm Ni 2.55 μm Cu 无限厚 3.结果 极薄镀层的引线架在各测量时间内进行20次重 复测量的结果为表3、4、5。法。 表3 引线架10秒重复测量结果 10 秒测量 Au Pd Ni Mean(μm) 0.0051 0.0105 0.7696 STDEV 0.0011 0.0009 0.0032 MAX(μm) 0.0069 0.0124 0.7774 MIN(μm) 0.0020 0.0089 0.7629 Range(μm) 0.0049 0.0035 0.0145 CV(%) 22.037 8.223 0.421 表4 引线架30秒重复测量结果 30 秒测量 Au Pd Ni Mean(μm) 0.0052 0.0107 0.7719 STDEV 0.0004 0.0005 0.0020 MAX(μm) 0.0061 0.0118 0.7760 MIN(μm) 0.0046 0.0099 0.7683 Range(μm) 0.0015 0.0019 0.0077 CV(%) 7.507 4.257 0.253 表5 引线架60秒重复测量结果 60 秒测量 Au Pd Ni Mean(μm) 0.0049 0.0106 0.7706 STDEV 0.0003 0.0004 0.0009 MAX(μm) 0.0053 0.0112 0.7725 MIN(μm) 0.0044 0.0099 0.7690 Range(μm) 0.0009 0.0013 0.0035 CV(%) 5.624 3.910 0.123 Copyright Hitachi Instruments (Shanghai) Co., Ltd. All rights reserved. ■ 2 用于登录标准物质的标准片在各测量时间内进行 20次重复测量的结果为表6、7、8。 表6 标准物质10秒重复测量结果 10 秒测量 Au Pd Ni Mean(μm) 0.0461 0.0500 2.6145 STDEV 0.0014 0.0025 0.0104 MAX(μm) 0.0484 0.0544 2.6375 MIN(μm) 0.0436 0.0466 2.6006 Range(μm) 0.0048 0.0078 0.0369 CV(%) 2.941 4.971 0.396 表7 标准物质30秒重复测量结果 30 秒测量 Au Pd Ni Mean(μm) 0.0453 0.0511 2.6026 STDEV 0.0008 0.0011 0.0058 MAX(μm) 0.0467 0.0529 2.6126 MIN(μm) 0.0440 0.0488 2.5926 Range(μm) 0.0027 0.0041 0.0200 CV(%) 1.763 2.158 0.222 表8标准物质60