高介電聚合物基復合材料的制備與性能.doc

附件2 论文中英文摘要格式 作者姓名：沈洋 论文题目：高介电聚合物基复合材料的制备与性能 作者简介：沈洋，男，1980年11月出生，2002年9月师从于清华大学南策文教授，于2007年1月获博士学位。 中 文 摘 要 电子设备日益小型化、多功能化的发展趋势，对电子线路中元件的封装密度提出了更高的要求。嵌入式无源元件技术能够实现对电容、电感等无源元件在印刷线路板内部的嵌入式封装，从而节省线路板表面空间、提高封装密度。聚合物基复合电介质材料因其在嵌入式电容器中的潜在应用价值而日益受到人们的关注。虽然具有一定介电常数的陶瓷颗粒/聚合物型复合材料已经获得了初步应用，但是由于这些材料的介电常数仍然偏低，并且由于较高陶瓷填料含量引起复合材料机械及工艺性能恶化，陶瓷颗粒/聚合物型复合材料仍不是理想的目标材料。通过向聚合物基体内添加导电颗粒，利用导电颗粒的渗流（逾渗）效应提高复合材料介电常数的方法虽然能够显著地提高复合材料介电常数，但是随之而来的是材料发生“绝缘体－导体”转变会导致较高的电导率和急剧增大的损耗。同时在渗流阈值附近复合材料介电常数对导电颗粒含量过于敏感，相对渗流阈值的微小含量偏差就会引起介电性能的严重降低，造成介电性能可重复性差，增大了工艺控制的难度。本论文主要着眼于通过选择材料体系、设计与控制材料微结构两种手段来降低渗流型复合材料的介电损耗。首先由研究导电填料的种类、形状对聚合物基复合材料的介电性能影响规律入手，进而提出通过在导电颗粒之间引入绝缘界面层来抑制由颗粒间的直流漏导所引起的高介电损耗，实现对渗流型复合材料介电性能的综合优化。在对高介电复合材料研究的基础上，通过添加大尺寸铁氧体颗粒，在渗流型复合电介质材料内部形成双渗流结构，进一步实现了电容、电感特性在聚合物基复合材料中的集成。 首先以半导体填料取代导体填料以降低漏电损耗，采用具有较大长径比的半导体Bi2S3纳米棒为填料，以聚偏氟乙烯（Polyvinylidenefluoride, PVDF）为聚合物基体，制备了Bi2S3/PVDF复合材料。具有一定长径比的Bi2S3纳米棒能够显著降低复合材料的渗流阈值，从而可以在低填料含量的条件下，使复合材料的介电常数得到提高。且Bi2S3纳米棒的定向排列使得复合材料介电性能呈现出明显的各向异性。但实验结果表明，棒状颗粒渗流时彼此间有限的接触面积造成渗流结构较为脆弱，易受到外电场破坏；半导体Bi2S3能够在一定程度上降低复合材料的电导率，同其它采用导电颗粒为填料的复合材料体系相比，Bi2S3/PVDF复合材料的电导率要低2～3个数量级。但是在降低介电损耗方面仍然没有取得预期的理想效果。并且由于Bi2S3半导体本征电导率随温度升高而增加，该复合材料在高温下（100oC）漏导显著增大，介电损耗快速增加。 为了有效降低渗流型复合材料介电损耗，本论文提出了在导电颗粒间引入绝缘层来阻断漏导通道，采用具有核壳结构的Ag@C纳米颗粒与环氧树脂（Epoxy）进行复合，发展了高介电、低损耗的新型Ag@C/Epoxy复合材料。首先采用水热法，利用葡萄糖在高温高压下的催化特性还原出Ag纳米颗粒，继而通过葡萄糖在高活性Ag纳米颗粒表面的聚合实现绝缘有机多聚糖壳层（记为C）对Ag纳米颗粒的包覆，即Ag@C。该多聚糖壳层的厚度及导电性可以通过改变水热反应条件进行调制，最终获得直径80~100nm 的纳米Ag颗粒，其外包覆层厚度可在4~120 nm之间调节。将此核壳结构纳米颗粒与树脂进行液相共混，并随后加入固化剂实现环氧树脂的原位聚合，从而实现了纳米颗粒在聚合物基体内的均匀稳定分散，并进一步将此前躯体混合液以溶液浇铸法成膜，最终获得厚度80~100 ?m的复合材料厚膜。对采用该方法制备复合材料介电性能进行综合表征，结果显示，Ag@C/Epoxy复合材料的介电性能获得了综合优化。该复合材料的介电常数在环氧树脂基体的基础上提高了约2个数量级（例如，采用壳层厚度8 nm的Ag@C颗粒，在渗流阈值附近介电常数达到320），其介电损耗保持在Tan δ 0.04的较低水平。且介电常数随填料含量、频率、温度、外电场强度变化显示出良好稳定性。在所测量范围（如，100 Hz ~ 30 MHz，20 oC~120 oC）内均未显示出介电松弛，复合材料击穿场强达到107 V m-1。从而成功地实现了渗流型复合材料的高介电、低损耗、高稳定性，并提出了相应的理论模拟解释。 在此基础上，继续对纳米颗粒中有机多聚糖层的厚度和电性能对Ag@C/Epoxy复合材料介电性能的影响进行研究。结果表明，复合材料的介电性能对于Ag@C颗粒中有机多聚糖壳层厚度的变化较为敏感，显示出明显的纳米尺寸效应。因而通过调节有机多聚糖层的厚度，实现了对复合材料介电常数的调制，如在壳层厚度由4 nm增加至13