设备进驻协议书-HMLT低温高磁实验室.doc

契約編號： PAGE  第  PAGE 5 頁，共 5 頁 財團法人國家實驗研究院 國家奈米元件實驗室 與 國立交通大學 奈米科技中心 設備進駐協議書 契約編號： 契約期間： 民國96年01月15日至 民國99年01月15日止 設備進駐協議書 甲方：財團法人國家實驗研究院（執行機構：國家奈米元件實驗室） 乙方：國立交通大學（執行機構：奈米科技中心） 乙方為將儀器設備進駐於甲方工作場所內，緣由雙方合作計畫「低溫強磁場及低溫光學系統建構計畫」（以下簡稱本計畫），特立本協議書。茲雙方經協議後，同意合作條件如下： 雙方合意 甲乙雙方合意，共同遵守本協議書所訂之條款，進行之合作事宜。 合作內容 乙方同意提供「低溫強磁場系統」及「傅氏紅外光譜系統」儀器設備『以下簡稱本設備』進駐於甲方工作場所內，並遵守甲方管理規定。 甲方同意提??「低溫強磁場實驗室」及「低溫光學實驗室」工作場所『以下簡稱本場所』，給乙方放置本設備。 乙方儀器設備進駐後，按月使用比率一般不高於40%，雙方協議後訂定比率為甲方60﹪；乙方40﹪。 合作契約期間 本合作執行期間自民國96年01月15日起至民國99年01月15日止。 本協議書自計畫開始實施日起生效，至本計畫實施期間屆滿日止。經雙方另行合意約定，得依實際情況延長之。 合作進度 甲乙雙方應依計畫約定之進度，以利本計畫之進行。 乙方如因實際需要必須變更本計畫內容，應提出所擬變更項目與本計畫項目之對照表、對計畫之影響並述明理由，經甲方書面同意後始得變更。因計畫變更所應增加之計畫經費應由乙方給付。 計畫費用 乙方提供： 進駐儀器費用：其細目包括：1.低溫強磁場系統及其週邊不斷電系統與幫浦設備共計新台幣玖佰捌拾玖萬零柒佰壹拾元整。2.傅氏紅外光譜系統含其幫浦系統、低溫設備、閘式積分器與特殊偵檢器共計新台幣捌佰肆拾伍萬玖仟零陸拾肆元整。兩項總計新台幣壹仟捌佰參拾肆萬玖仟柒佰柒拾肆元整 甲方提供： 進駐後，廠務設施建置費、及安全衛生及污染防治設備等費用共計新台幣參佰壹拾壹萬肆仟零參拾柒元整 進駐後，使用材料費及??統維修費則予以補助。 保密義務 雙方同意於執行本計畫期間及其完成後，任一方非經他方書面同意，不得將因執行本計畫，所獲得之研究成果及其他與本計畫有關之報告、檔案、圖表、數據及所知悉他方之業務及技術資料等秘密資訊自行對外發表或以其他任何方式揭露。 甲方同意乙方就乙方因執行本計劃所完成之學術性創作，於乙方在其學術性著作中有引用甲方所開發的任何相關資料之必要時，經取得甲方之書面同意者（是項同意不得無正當理由而予拒絕），得予以使用並揭露。 本條所定之秘密資訊及其保密義務，雙方同意應於本計畫完成後，共同製作秘密資訊清單，以茲遵守。惟並不適用於下述資訊： 係自公共來源或領域獲得者；或 係在未違反與第三人之保密約定下自該第三人取得而為使用或揭露者；或 經證明係由接受秘密資訊之一方在完全未仰賴另一方提供之秘密資訊之情形下，所獨立發展而得，或係接受秘密資訊之一方在自他方取得該秘密資訊前即已知悉者；或 係因執行本契約所必須提供第三人者，惟該第三人亦已受同等保密義務之約束：或 倘係因行政或司法機關之命令或要求或法律之規定所揭露，則此等揭露將不構成本合約之違反，惟受要求揭露秘密資訊之一方應即刻通知他方，且應協助他方設法在現行法律制度下取得必要之保護令或保護措施。 智慧財產權 任一方於本研究期間所提供之任何技術資料、專門技術、設計、營業秘密、資訊、數據及其他智慧財產，其營業秘密、著作權、專利權、商標權或其他任何依法受保護之智慧財產權權利，除依本研究之目的應授權他方使用之範圍外，仍為該方所有。 因執行本計畫所產生之智慧財產權，其係由甲方完成開發者（不論乙方是否提供任何協助），由甲方擁有其相關智慧財產權及申請權；其係由乙方完成開發者（不論甲方是否提供任何協助），由乙方擁有其相關智慧財產權及申請權。係由甲、乙雙方共同完成或無法確認係由任何一方完成者，由甲、乙雙方共同擁有其相關智慧財產權及申請權。就共有之智慧財產權，如有必要於任何區域申請著作權、專利權或其他法定權利之註冊或登記時，除乙方另行同意負責提出外，應由甲方負責提出，並以雙方為共有人之名義申請，並登記為共有。申請及維護所需之費用，應由雙方平均負擔，惟乙方於經費不足而無法支付之情況下，甲方同意全部負擔；申請之相關文件、說明書等應經乙方事前核可。 就共有之智慧財產權，如甲方未就該智慧財產權提出任何申請，經乙方限期通知仍不予提出申請者，視為甲方同意就其共有部分無條件且無償轉讓予乙方，乙方得自行提出申請，甲方不得以該申請權或所取得之智慧財產權為任何權利主張。 除共有之智慧財產權外，任何一方於本合約終止後基於本研究所產生之智慧財產權而獨立改良發展出任何技術資料及文件之專利權、著作權及