光学薄膜技术发展与应用.doc.doc

技術發展與應用 光電子學期末報告 學生:呂英齊 班級:物四甲 學號:8622025 繳交日期:2000.12.19 報告日期:2000.12.27 從肥皂泡沫的表面、玻璃表面間的空隙及水面上浮油反射出來的顏色，薄膜光學隨即成為被研究的一門學問，二十世紀由於真空技術、電腦及控制技術及材料技術的進步，使得多層膜之製做成為可行的事實，並且能從事商業上生產的成品。 現今在光電科技的領域中，光學薄膜技術巳成為控制光束光譜的強有力工具，光學膜膜的主要功能在改變及控制光束於光電系統中的光譜特性(見圖一)，此外尚有消除鬼影、色彩平衡調整及鏡面保護的功能。 圖 一 薄膜光譜特性 在光學薄膜的應用上，由於技術本身是屬於泛用性的，較難以某一單一產品為載具來界定之(見圖二)。光學薄膜產品之市場，由於其最終應用是在光學元件上面，故從光學元件相關市場來討探更可看出其附加價值及關鍵性;在美蘇冷戰結束後，軍用的光學元件市場上有衰退的跡象，而外腔式(External-Cavity)光學儀器的發展卻是有很大的成長空間，由於雷射光源之調制方式有走向外腔式的趨勢，故相關的準直鏡 (Collimator) 、雷射鏡片將應用廣泛。 此外光學薄膜的應用在日常生活中佔的比重很大，例如抗反射膜主要的製品有照相機及眼鏡及光電設備(如傳真機、雷射印表機、雷射唱盤、影碟機等)。 此外還有液晶顯示器中所需之導電透明薄膜，照明及裝飾用之冷光燈、雷射鏡片、干涉濾光鏡、分色鏡、攝錄影機、雷射計測、電腦護目鏡、醫療照明等。 另外還有CuInSe2薄膜太陽電池、低損耗雷射鏡、拋物面鏡遮板、美國哈伯太空望遠鏡等是薄膜光學比較重大的應用。 圖 二 光學薄膜應用圖 然而光學薄膜的應用是十分廣泛的，光學薄膜的市場也是具有無窮的潛力，從精密的光學儀器到日常的光學薄膜應用，其技術層次是與其價值成正比例的(見圖三)，因此光學薄膜的市場仍是明日之星。 圖 三 光學工業技術層次與價格圖 其他光學薄膜的應用將在以下介紹各種鍍膜技術中再分述之。 各種鍍製技術一覽表 各種改進膜質製鍍方法 光學鍍膜技術和其他科技一樣近年來有著快速發展，自1817年Fraunhofer利用酸蝕法成功的製造抗反射膜使透鏡之透光率增加，迄今以離子濺鍍技術製造超級鏡片(super mirror)，來測量宇宙重力波，其間鍍膜技術變化極大，但新的技術往往發展自舊有的技術。 光學薄膜技術主要之關鍵性問題有三(1)鍍膜製程包括真空鍍膜機、監控技術等;(2)鍍膜材料包括材料測試、化學純度、材料創新、材料型式等;(3)設計技術包括膜層設計、厚度誤差分析技巧等。 不同於微電子電路應用之IC膜薄或以化學方式製作的薄膜，光學薄膜大部分屬於多層設計之結構，再加上針對基板(通常為透鏡)之蒸鍍為批次量產的需求，故以物理蒸鍍(Physical Vapor Deposition ; PVD)方式為主，其他則根據不同用途尚有CVD，雷射輔助加熱蒸鍍或電漿聚合沈積等方式，整體而言，光學薄膜技術整體發展(1)在製程(Process)方面-----將朝開發新鍍膜技術方向進展(2)在監控技術上-----將朝廣域光譜監控方向進行(3)在設計技術上-----以電腦輔助之膜層設計結合膜厚誤差分析進行所謂隨機修正製程;前述三者再搭配上材料之選取技術，則形成了整體之發展架構，而其外在的驅動力量則下列三個主要因素(i)由微結構的控制達到耐潮濕的目的---一般而言某些鍍膜品質(特別是以分色為目的者)在鍍膜剛完成(in vacuum)時與鍍膜之後(in air)其光譜會有偏移(shift)的現象產生，乃是因水氣侵入膜層所致，此當影響鍍膜品質至鉅，如何改進巳成為重要課題;(ii)低溫蒸鍍製程之必要性----由於屬於塑膠類(無法承受太高溫)之基板鍍膜機會增加，另一方面考量經濟上之效益，即使是玻璃基板，亦希望能降低基板加熱溫度之時間(通常約需一個小時以上，且不能太快，否則基板會龜裂)，以求縮短製程，但此點通常會與(i)所述會有抵觸，故如何取得平衡，值得深入研究;(iii)要求有極佳之複製率----如何在生產過程中，對不同批次之光學薄膜產品，能得到所要求之相同光學特性，將是量產時最重要的條件，故製程技術的提升，甚至是自動化的生產技術亦將是重要的目標之一。 鍍膜技術有很多種，但大體上可分為利用液態及蒸汽成膜兩種方法，前著大多涉及化學變化，後著皆有些是利用化學作用，有些則是屬於物理作用，分述如下。 各種鍍膜方法 液體成膜法 所謂液體成膜法是指利用液體本或利用液體當媒介起化學或電化學作用而生成薄膜在基板上或液體為薄膜之溶液，使之與基板接觸而生成薄膜，今簡要分述如下: 酸