战略性先进电子材料重点专项2017年度项目申报指南.PDF

战略性先进电子材料重点专项2017年度项目申报指南.PDF

  1. 1、本文档共29页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
战略性先进电子材料重点专项2017年度项目申报指南

附件 4 “战略性先进电子材料”重点专项 2017 年度项目申报指南 为落实《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020 年)》和《中国制造 2025》等提出的任务,国家重点研发计 划启动实施“战略性先进电子材料”重点专项。根据本重点专 项实施方案的部署,现发布 2017 年度项目申报指南。 本重点专项总体目标是:面向国家在节能环保、智能制 造、新一代信息技术领域对战略性先进电子材料的迫切需 求,支撑“中国制造 2025”、“互联网+”等国家重大战略目标, 瞄准全球技术和产业制高点,抓住我国“换道超车”的历史性 发展机遇,以第三代半导体材料与半导体照明、新型显示为 核心,以大功率激光材料与器件、高端光电子与微电子材料 为重点,通过体制机制创新、跨界技术整合,构建基础研究 及前沿技术、重大共性关键技术、典型应用示范的全创新链, 并进行一体化组织实施。培养一批创新创业团队,培育一批 具有国际竞争力的龙头企业,形成各具特色的产业基地。 本重点专项按照第三代半导体材料与半导体照明、新型 显示、大功率激光材料与器件、高端光电子与微电子材料4 - 1 - 个技术方向,共部署35个研究任务。专项实施周期为5年 (2016 - 2020年)。 2016年,本重点专项在4个技术方向已启动15个研究任 务的27个项目。2017年,拟在4个技术方向启动15个研究任 务的37-74个项目,拟安排国拨经费总概算为8.38亿元。凡企 业牵头的项目须自筹配套经费,配套经费总额与国拨经费总 额比例不低于1:1。 项目申报统一按指南二级标题(如1.1)的研究方向进行。 除特殊说明外,拟支持项目数均为1-2项。项目实施周期不超 过4年。申报项目的研究内容须涵盖该二级标题下指南所列 的全部考核指标。项目下设课题数原则上不超过5个,每个 课题参研单位原则上不超过5个。项目设1名项目负责人,项 目中每个课题设1名课题负责人。 指南中“拟支持项目数为 1-2 项”是指:在同一研究方向 下,当出现申报项目评审结果前两位评价相近、技术路线明 显不同的情况时,可同时支持这 2 个项目。2 个项目将采取 分两个阶段支持的方式。第一阶段完成后将对 2 个项目执行 情况进行评估,根据评估结果确定后续支持方式。 1.面向新一代通用电源的 GaN 基电力电子关键技术 1.1 用于小型化电源模块的高速 GaN 基电力电子技术 研究内容:研究大尺寸 Si 衬底上高均匀性 GaN 外延生 长技术;研究 Si 衬底上 GaN 基高速开关器件设计与产业化 - 2 - 制备技术;研究 GaN 高速器件动态导通电阻的衰退机制及其 控制方法;研究适用于 GaN 基高速开关器件的驱动与系统集 成技术;开发低寄生参数封装工艺;研究小型化电源模块, 应用于通讯设备及新一代数据中心服务器等领域。 考核指标:6~8 英寸 Si 衬底上 GaN 基异质结构材料方 块电阻<350 ?/sq,方阻不均匀性<3%;100 V 场效应晶体管 导通电阻<7 m?,动态电阻上升<50%,建立动态导通电阻衰 退模型;实现开关频率>1 MHz 的无引脚封装;应用于开关 频率 1 MHz 的 300 W 电源模块,转换效率≥96%;形成 6~8 英寸 GaN 基电力电子器件生产线;申请发明专利 15 项,发 表论文 10 篇。 1.2 用于中等功率通用电源的高效率 GaN 基电力电子技术 研究内容:研究 Si 衬底上高耐压 GaN 材料外延生长技 术;研究低动态导通电阻、高稳定性大电流功率开关管和二 极管平面器件的设计与产业化制备技术;建立异质结构材料 与器件的可靠性评价体系,研究器件的失效机理与高耐压、 高可靠性提升技术;研究高效散热的封装技术;研发高效率 电源模块,应用于太阳能逆变器等通用电源。 考核指标:Si 衬底上 GaN 基场效应晶体管击穿电压 >1200 V,导通电阻<100 m?,反向漏电<10 μA(@600 V); Si 衬底上 Ga

文档评论(0)

***** + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档