聚焦离子束扫描电子显微镜.PDFVIP

聚焦离子束扫描电子显微镜 FEI Quanta 200 FEG FEG-SEM/FIB can emit a high intensity focused ion beam (FIB) on the nanometer scale material combining with scanning electron microscopy (SEM). It open up a new way of nano processing of the nano-devices and the bulk material. It has been widely used in many fields such as semiconductor IC production lines; directly repair and processing of integrated circuit; micro-nano manufacturing and processing of devices. 场发射(FE-SEM)部分： 1.分辨率：高真空：1.2nm at 30kV 2.放大倍数：2x~1,000,000x -3 -6 3.真空系统：高真空：样品室9x10 Pa，枪体真空1x10 Pa FEG-SEM/FIB采用高强度聚焦离子束（FIB）对 4.加速电压：0.5kV to 30KV 材料进行纳米尺度地加工，结合扫描电子显微 5.电子束电流：2pA~100nA 镜（SEM）实时观察，开辟了从大块材料制造 离子束(FIB)部分： 纳米器件、进行纳米加工的新途径。目前已广 1.分辨率： 5nm at 30kV 泛用于半导体集成电路生产线；直接修补、加 2.放大倍数：150x~1,000,000x 工集成电路；微纳米加工、操作以及器件的研 3.真空系统：枪体真空5x10-6Pa 4.加速电压：1kV to 30kV 制等诸多领域的研究中。 5.电子束电流：2pA~40nA