高精度光栅刻划中的综合误差修正技术-高精度光栅刻划中的.PDFVIP

『994年5月 重 废 走 学 学 报 Vo1．1 7．№ ．3 第1 7巷第3期 JOURNAL OF CHONGOINo UNIVERSTTY May．I994 7一 高精度光栅刻划中的综合误差修正技术‘ Composition Errors Correction lechnioue for Manufacture of High Acceracy Grating 陈骥 杨世雄 顾庆祥 余红 丁H 74-／I Chen Ji Yang Shixiong Gu Qingxmng Yu Hong (重庆大学光电精密仪器系，重庆，630044) ，1摘^ 要 在用线性系统和随机过程理论分析光刻机误差传递特性的基础上 ， 采用时间 序刊分析法建立误差的数学模型，提出了综合误差修正的新方法，介绍了微机综合误差实时 修正乐统的电路结构与工作原理 其主要特点是，不仅能修正东统误差，而且能够根据对随 机误差的预报来修正相羌的动态误差。实验结果表明，系统修正精度达到士0．1 um． 关键词 光栅；刻划 综合误差 修正 中国图书资料分类法分类号 TH741．6 ABSTRACT In thm paper，by using the theories of linear system and stochastic process，the tranafer characteristics of the erroPs of a photoengraying machine an analyzed．On the basis of the analys~，the mathematical model of the effofs is derived by use of the method of time seri瞄 analysis．Then．a new approach called compestton~TOf Correction(CEC)js presented．The circuit SUUCI：U~ and the working principle of the CEC System adopting microcomputer are described．Its major feature js that the method car not only COil~Ct for systematic eITors．but als0 can correct correlated dynamic effOPS accotxling to forecasting vaiu~ of rad om effog~．The results of the exepriment show that the corrccUon accuracy of th CEC system fetches submimon grade(土 0．1 Ⅲn)． KEYWORI)S grating；engrave；；composition e }correction 0 引 言 在高精度光栅刻划的研究过程中，为了提高光栅的刻划精度，人们往往把注意力放在提 高光刻机本身及其基础部件的制造精度上，期望通过提高整个系统的制造精度来刻划出高 精度光栅 但这将使光刻机的制造成本成指数曲线上升，而其实际效果往往达不到理想效 果。随着微型计算机在精密制造与测量领域应用的目益普及．精密制造和测量领域中的误差 修正技术也得到迅速发展 误差修正技术 其能大幅度提高仪器精度和具有疑著的羟济效 · 收文日期 I91)3·08—26 国家自然科学基圭资助项目 8 重 鹿 大 学 学 报 I994正 益的优点正日益受到人们的重视，应用微机修正误差已成为当代精密机床和测量仪器发展 的一种趋势。 我们在完成国家自然科学基金资助项目“高精度长光