《磁性物理》第六章技术磁化理论.pptxVIP

第六章 技术磁化理论; 磁化过程：磁体在外场作用下，从磁中性状态到饱和状态的过程。 技术磁化：在缓慢变化或低频交变磁场中进行磁化。（所考虑的是磁化已经达到稳定状态的问题） 获得磁中性状态的方法： 交流退磁：无直流磁场，对磁体施加一定强度的交变磁场，并将其振幅逐渐减小到零。 热致退磁：将磁体加热到Tc 以上，然后在无H时冷却下来。;第一节 磁化过程概述;3、陡峭区 中场H范围。M变化很快。 是不可逆磁化过程，发生巴克豪森跳跃的急剧变化，其χ 与 μ 均很大且达到最大值——又称最大磁导率区。 4、趋近饱和磁化区 强H，M变化缓慢，逐渐趋于技术磁化饱和。符合趋于饱和定律：;二、磁化过程的磁化机制;1、磁化过程大致可以分为四个阶段： (1)、可逆磁化阶段： 若H退回到零，其M也趋于零。同时存在： a、畴壁位移（金属软磁材料和 μ 较高的铁氧体中以此 为主）。 b、磁畴磁矩转动（在 μ 不高的铁氧体中以此为主）。 (2)、不可逆磁化阶段 主要指不可逆壁移 (3)、磁畴磁矩的转动 此时样品内壁移已基本完毕，要使M增加，只有靠磁畴磁矩的转动来实现。 一般情况下，可逆与不可