基片温度对坡莫合金薄膜结构和磁电阻的影响-发光学报.PDF

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2017-05-28 发布于天津
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基片温度对坡莫合金薄膜结构和磁电阻的影响-发光学报

24 4 Vol1 24 No. 4 2003 8 CHINESE JOURNAL OF LUM INESCENCE Aug . , 200 3 : 1000-7032(2003) 04-0435-03 基片温度对坡莫合金薄膜结构和磁电阻的影响王凤平, 刘还平, 吴平, 潘礼庆, 邱宏, 田跃, 罗胜 ( , 100083) : Ni Fe X 80 20 4 : , , , [ 111] , , : ; ; ; : TM276 : A ( Cam ridge Co1) 1 引言 X ( MAC Science Co1) , [ 1,2] , ( DI Co1) N i Fe 80 20 , 3 结果与讨论 , 1Ni Fe [ 111] , 80 20 [ 3] X 1 , , , ( 1( a) ) [ 111] , ( 111) ; 643K , : ( 111) ( 1( ) ) ; [4] 823K, ( 111) , , Ni80Fe20, 2 实验 Ni80Fe20 Si( 111) , 500nm SiO 300, 643, 2 - 5 1 Ni Fe X 823K( 4~ 8) @ 10 Pa 80 20 , 0145Pa, , ( a) 300K; ( ) 643K; ( c) 823K Fig. 1 XRD spectra of Ni Fe films deposited at 300K 3nm/ min, 80nm 80 20 4 ( a) , 643K( ) and 823K( c) , respect ively. : 2002-08-12; : 2003-03-12 : ( : ( 1962- ) , , , , ,