介质层充电对光栅光调制器驱动的影响！.PDFVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 J% $##) ， ， ， G41 (J% S4 ( *T6 $##) （ ） ’###-+$K#I$##)IJ% # I+##-#% LMNL OPQ?RML ?RSRML !$##) M;0 ( O;=2 ( ?4: ( 介质层充电对光栅光调制器驱动的影响! ! 孙吉勇 黄尚廉 张 洁 张智海 （重庆大学光电工程学院，光电技术及系统教育部重点实验室，重庆 ### ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） $##% % $ $##% ’# ’ 利用高斯定理分析了二氧化硅层中存在电荷时，光栅光调制器中的空间电场分布，得到了光栅光调制器在介 质层存贮电荷影响下的静电力公式 分析了调制器中二氧化硅介质的充电和放电机理，得到了光栅的位移随介质 ( 充放电的变化关系( 通过分析指出当驱动电压的周期和介质的充放电时间常数相近的时候，介质层中存贮的电荷 会使得可动光栅被下拉后发生缓慢的回跳 电压被撤消后，光栅会受到存贮电荷所产生电场的作用而被下拉 当 ( ( 驱动电压的周期远小于介质的充放电时间常数的时候，随着存贮电荷的增加，光栅在有外加电场时被下拉的距离 和外加电场为零时被下拉的距离逐渐相等，光调制器输出光的光强变化逐渐减弱，当存贮电荷产生的电场为外加 电场的一半时，器件完全失效 通过实验对理论分析的结果进行了验证，实验结果和理论分析一致 文章最后提出 ( ( 了一种消除介质层所存贮的电荷的方法，通过实验证明了这种方法的可行性( 关键词：微机电系统，光栅光调制器，介质层充电 ： ， !## $)$ %$$#* ［— ］ 关键因素 ( 光栅光调制器也是基于静电力驱动 ’9 引 言 的器件，因此有必要对介质层充电对光栅光调制器 驱动特性的影响进行详细的分析，以改善和提高调 近年 来，随着 微 机 电系 统 （ 制器的工作性能( .0:74-616:374- .6:;/0:/1 2=236.2，简称为,? ）技术的不断发展， 本文首先简单介绍了光栅光调制器的工作原 光,? 已成为当前研究的热点之一，基于 ,? 理，接着详细的分析了二氧化硅绝缘层的充电电荷 的光调制器在投影显示领域的应用是其中一个主要 对调制器驱动性能的影响( 通过对调制器的静电力 方向 利用 技术，人们提出了各种各样的光