X射线荧光光谱法表征薄膜进展.pdfVIP

光谱学与光谱分析 Vol. 26 ,No.1 ,pp159-165 第26巷，第1 期 2006 年 1 月 SPI汇t:ros∞py and Spectral Analysîs January , 2006 X 射线荧光光谱法表征薄膜进展 韩小元，卓尚军\王佩玲 中国科学院上海礁殴盐研究所，上海 200050 摘 要 X射线荧光光谱法表征薄膜样品以其能同时测定样品的组分和厚度等优点，目前在国内外的研究 和应用越来越广泛和深入。文章通过从荧光强度理论计算、基体效应和校正方法、分析误袭来掘及消除、定 量分析软件和实际分析应用等几个方面对X射线荧光光谱法表征薄膜样品的研究作了评述。鉴于薄膜样品 制各相似标样比较困难，而基本参数法采用非相似标样表征薄膜的准确度较高，因此基本参数法校iE薄膜 样品的应用比较广泛。熏点介绍了基本参数法的荧光强度理论计算公式的发展、计算误袭来源以及分析软 件应用。展望