YS/T 719-2009平面磁控溅射靶材　光学薄膜用硅靶.pdf

犐犆犛７７．１５０．９９ 犎 ６３ 中华人民共和国有色金属行业标准 ／ — 犢犛犜７１９ ２００９ 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 — 犉犾犪狋犿犪狀犲狋犻狀 狊狌狋狋犲狉犻狀 狋犪狉犲狋 犵 犵狆 犵 犵 犛犻犾犻犮狅狀狋犪狉犲狋犳狅狉狅狋犻犮犪犾犮狅犪狋犻狀 犵 狆 犵 ２００９１２０４发布 ２０１００６０１实施 中华人民共和国工业和信息化部 发 布 ／ — 犢犛犜７１９ ２００９ 前 言 　　 本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。 　　 本标准负责起草单位：利达光电股份有限公司。 本标准主要起草人：李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。 Ⅰ ／ — 犢犛犜７１９ ２００９ 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 １ 范围 　 本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存 及订货单（或合同）内容。 本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。 ２ 规范性引用文件 　 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有 的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究 是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 ／ 硅、锗单晶电阻率测定 直流两探针法 ＧＢＴ１５５１ 　 　 ／ 铜及铜合金板材 ＧＢＴ２０４０ 　 ／ （所有部分） 铜及铜合金化学分析方法 ＧＢＴ５１２１ 　 ／ 加工铜及铜合金化学成分和产品形状 ＧＢＴ５２３１ 　 ／ 硅多晶 ＧＢＴ１２９６３ 　 ３ 术语和定义 　 下列术语和定义适用于本标准。 搭接率 犫狅狀犱犻狀 犲狉犮犲狀狋犪犲 　 犵狆 犵 硅板与背板之间的实际接合面积占应接合面积的百分比。 ４ 要求 　 ４．１ 材质 　 铜板（背板）和硅板。 ４．２ 化学成分