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MOCVD法制备的p_ZnO_n_省略_SiC异质结器件及其电致发光性能_史志锋
第33 卷 第5 期 发 光 学 报 Vol. 33 No. 5
2012 年5 月 CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE May ,2012
文章编号:1000-7032 (2012)05-0514-05
MOCVD 法制备的p-ZnO / n-SiC
异质结器件及其电致发光性能
1 1 1 1 1
史志锋 ,伍 斌 ,蔡旭浦 ,张金香 ,王辉 ,
1 2 1* 1 1 ,2
王 瑾 ,夏晓川 ,董 鑫 ,张宝林 ,杜国同
(1. 集成光电子国家重点联合实验室吉林大学电子科学与工程学院,吉林长春 1300 12 ;
2 . 大连理工大学物理与光电工程学院,辽宁大连 116023)
摘要:
采用光辅助金属有机化学汽相沉积(PA-MOCVD)法在n-SiC (6H)衬底上制备出As 掺杂的p 型ZnO
薄膜,并制备出相应的p-ZnO∶ As / n-SiC 异质结器件。X 射线衍射(XRD)和光致发光(PL)测试表明,ZnO 薄膜
具有较好的结构和光学特性。电流-电压(I-V)测试结果表明,该型异质结器件具有良好的整流特性,开启电
压为5 . 0 V ,反向击穿电压约为- 13 V 。正向偏压下,器件的电致发光(EL)谱表现出两个分别位于紫外和可
见光区域的发光峰,通过和ZnO、SiC 的PL 谱对照,证实异质结器件的发光峰来源于ZnO 侧的辐射复合。
关 键 词:As 掺杂;p-ZnO / n-SiC ; 电致发光; 金属有机化学汽相沉积
中图分类号:O484 . 1 ;TN383 文献标识码:A DOI :10 . 3788 / fgx. 0514
Fabrication and Electroluminescent Properties of
p-ZnO / n-SiC Heterojunction Device by MOCVD
SHI Zhi-feng1 ,WU Bin1 ,CAI Xu-pu1 ,ZHANG Jin-xiang1 ,WANG Hui1 ,
WANG Jin1 ,XIA Xiao-chuan2 ,DONG Xin1* ,ZHANG Bao-lin1 ,DU Guo-tong1,2
(1. State Key Laboratory on Integrated Op toelectronics ,College of Electronic Science and Engineering ,
Jilin University ,Changchun 1300 12 ,China ;
2. School of Physics and Op toelectronic Technology ,Dalian University of Technology ,Dalian 116023 ,China)
* Corresp onding Author ,E-mail :dongx@j lu. edu. cn
Abstract :As-doped p-ZnO films were grown by ph
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