高衍射效率全息光栅的制作与复制工艺研究.pdfVIP

维普资讯 高衍射效率全息光栅的制作与复制 连里堕 王朝 阳 (北京市计量科学研 究所 1000291 (清华大学光测 室 100081) 摘 要 本文根据正性光致抗蚀的感光显影特性，推导出1全息光栅沟槽深度公式． 分析 1影响光 因素．建立 了光栅沟糟模型。并根据论理论制作 出了衍射救率高达 65％的2400线 ／毫来 的全息平面反 还介绍 了奎息光栅复制技术．解决 了高质 量光栅 昂贵 的生产成本和大批量生产 问题 关键词 兰垄些苎竺型 苎!旦苎 芏苎塾圭 耋塑重型 TheFabrication and Replication ofHolographicGrating with High DiffractionEfficiency Zang Jiapeng W angChaoyang (t~eijnigMetrolngic~dScienceInstitute100029) (T~nghuaUniversity100081) Abstract In thispapera groove-depth formuLa of ho]ng raphic grating is derived nccording to the exposure and devdopmentcharacteristicsofpositivephotoresist．then thetypicalshapesofgroovearediscussed ． Using thishteory a 2400line#ram reflectingphneholographicgrating．whosediffraction efficiencyin theUV region isabout65％ was fabricated．na dthereplicaof8~3meholographicgratings．ismadelaythereplicationtechnologyofgrating． Keywords Positivephotor~sist Grooveprofile。fgrating diffraction efficiency RepLicationofgrating 制刻槽槽深 ，使其与槽距获得最佳匹配而得到垠优 的衍射 1 引言 效率。显然，槽深 的控制与正性光致抗蚀剂有着密切关系。 光栅 田其独特的优点丽被广泛应用在现代光学光谱仪 2 正性光致抗蚀剂全息光栅的槽深模型 器和集成光学领域。作为众多光学测量仪器的心脏，光栅 的特性直接影响着仪器 的性能。高质量的光栅需具备刻槽 正性光致抗蚀剂 (例如重氮萘醌粪 的 AZI35oJ、BP212 位置精确、衍射效率高、波面质量优 良、应用光谱范 围宽和 等)，主要有下列组成部分；基体树脂 R，它决定着抗蚀剂的 杂散光小等特点，其 中衍射效率是光栅最重要 的质量指标． 结构性质 ；溶剂 S，经预处理后大部分挥发 ；光活化 台物 M； 它直接影响着所制造 出的仪器的灵敏度和使用光谱范 围。 曝光产物 P(投酸)，它由M 与紫外光反应生成；表选式为： 光栅的制作主要有机器刻划法和激光光刻法。机刻法 M — 韭P (1) 提高光栅衍射效率的方法是采用锯齿槽形的闪耀光栅，但 (1)式即