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第 20 卷第 5 期 半 导 体 学 报 . 20, . 5
V o l N o
1999 年 5 月 , 1999
CH IN ESE JOU RNAL O F SEM ICONDU CTOR S M ay
半导体器件热特性的
电学法测量与分析
冯士维 谢雪松 吕长志 张小玲 何 焱 沈光地
(北京工业大学电子工程系 北京 100022)
摘要 利用电学法测量器件的温升、热阻及进行瞬态热响应分析是器件热特性分析的有力工
具. 本文利用电学法测量了 GaA s M ESFET 在等功率下, 加热响应曲线随电压的变化, 并通过
红外热像仪测量其温度分布, 结果表明电学法测得的平均温度与温度分布有很大关系. 理论计
算也表明了这一点. 在等功率条件下, 电学平均温度随着温度分布趋于均匀而减少. 该方法可
用来判断器件的热不均匀性.
PACC: 7220P , 7330
1 引言
半导体器件的热特性直接影响器件工作温度、热阻, 并决定器件的工作寿命. 其热特性
的测量变得越来越重要. 目前, 半导体器件工作温度及热阻测量的主要方法有: 红外微象仪
[ 1 ] [ 2 ] [ 3 ] [ 4 ]
法 , 电学参数法 . 还有对半导体激光器的温升及热阻测量的光谱法 、光热阻扫描法
[ 5 ]
及光功率法 . 这些方法基于不同的测量原理, 可以用来确定半导体器件表面的温度分布
或者某种意义上的平均温度. 本文用改进的电学法, 测量了半导体器件工作时的温升、热
阻, 对其瞬态温度特性进行了较为详细的测量与分析, 并通过计算模拟, 将电学法用于分析
GaA s M ESFET 的热不均匀性.
2 测量原理及其装置
[ 6 ]
在恒定电流下许多器件的半导体结电压与温度具有很好的线性关系 . 图 1 是 In
异质 结在不同测试电流下的线性关系曲线. 为保证测量的结电压与温度有
GaA sP InP PN
较为准确的对应关系, 测试电流一般很小, 为 100 ~ 2 , 依芯片的结面积大小而定. 这
A mA
样可以减少由于测试电流产生的自升温.
北京市科技新星培养计划项目资助课题
冯士维 男, 1961 年出生, 副教授, 主要从事半导体器件可靠性物理、光电器件等研究
谢雪松 男, 1970 年出生, 工程师, 主要从事器件可靠性物理、电路等研究
收到,定稿
5 期 冯士维等: 半导体器件热特性的电学法测量与分析
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器件测量时, 一般分为工作状态和测量状态. 对于 GaA sM ESFET , 正常工作时, 栅源之
间加反偏, 漏源之间加正偏. 所以从工作状态切换到测量状态时必须通过快速开关电路切断
漏源、栅源电压, 将正向恒定电流加到器件上. 测量此时结电压, 以确定对应的温度. 我们的
测
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