英国GENCOA(真科)Speedflo使用培训.pdf

Gencoa 工艺支持 黄汉乐 hugo@ GENCOA products cover 3 sputtering related areas 溅射阴极 平 旋转 圆形阴极 反应气体控制器 信号探测器 线性离子源 提供现场工艺调试，产品使用培训等售后服 务。 Reactive gas process controllers 标准版Speedflo Speedflo Mini 8通道 Speedflo的应用 Speedflo广泛应用于玻璃，太阳能，显示 器和OLED等溅射镀膜工艺领域。 气体反应控制器(Speedflo) 是一款灵活和高性能的仪器，运用可得到最好真空镀膜溅 射沉积和等离子工艺。这是以传感器和反馈信号的灵活性的控制系统。给真空镀膜工 艺带来快速，稳定，高产和高质产品。 根据顾客所得到的数据- 投资 成本回报 • 产线工艺镀膜速度加快3到5 倍。 • 30天之内得到投资回报 （反应控制） 反应溅射探测基本原理 信号采集 发射 靶材 反应气体输入 控制 (Speedflo) 基片 标准：透明程度，导电程度 体现：电压，频率，等离子密度 镀膜工艺信号输入和输出反应溅射控制 SpeedFlo - 输入传感信号 输出(气体流量计） • PEM – 等离子光波发射探测 • 金属波长／多类光谱波长  反应气体流量直接控制 输入  靶材电压间接控制 • 多样气体光谱输入 反应气体特征跃迁光谱间接控制 • 氩气光谱输入 溅射靶材特征跃迁光谱间接控制 • 等离子光谱（等离子表  局部气体压力控制（氩气/节流闪 处理）