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LCMO,LSMO单、双层薄膜的制备和电学性质 - 东南大学学报
第40卷第1期 东南大学学报(自然科 学版 ) Vol.40 No.1
2010年1月 JOURNALOFSOUTHEASTUNIVERSITY(NaturalScienceEdition) Jan.2010
doi:10.3969/j.issn.1001-0505.2010.01.041
LCMO,LSMO单、双层薄膜的制备和电学性质
张孝青 陈立立 何光旭 朱 明
(东南大学物理系,南京210096)
摘要:采用脉冲激光沉积法在Si衬底上沉积La CaMnO,La SrMnO(x=02,05,08)
1-x x 3 1-x x 3
单钙钛矿锰氧化物单层膜和双层膜.采用LCR仪等分析测试手段研究了薄膜异质结的电流 电
压特性.IV特性曲线表明:单钙钛矿La CaMnO/Si和La SrMnO/Si均表现出了与传统
1-x x 3 1-x x 3
pn结相似的整流特性,但是La CaMnO/Si的整流特性要明显优于La SrMnO/Si,这可
1-x x 3 1-x x 3
能是因为La CaMnO 同衬底晶格常数更为匹配且Sr掺杂引起的晶格畸变场势阱更深的缘
1-x x 3
故.在双层膜结构中可能是由于能带结构的原因,按La SrMnO/La CaMnO/Si顺序排列
1-x x 3 1-x x 3
+
的异质结相当于ppn结构,IV特性明显类似传统的整流特性,而La CaMnO/La
1-x x 3 1-x
SrMnO/Si顺序的异质结相当于npn型,整流特性不明显.
x 3
关键词:脉冲激光沉积法;异质结;整流
中图分类号:O469 文献标志码:A 文章编号:1001-0505(2010)01021805
Preparationandelectricpropertiesofsingleanddoublethinfilm
ofLCMOandLSMO
ZhangXiaoqing ChenLili HeGuangxu ZhuMing
(DepartmentofPhysics,SoutheastUniversity,Nanjing210096,China)
Abstract:La CaMnO,La SrMnO singleanddoublethinfilmsarepreparedbypulsedlaser
1-x x 3 1-x x 3
deposition(PLD)ontheSi(100)substrate.Thetransportpropertiesoftheheterojunctionwerestud
iedbytheLCRmeter.TheIVcurvessuggestthatrectificationpropertyofLa CaMnO/Siand
1-x x 3
La SrMnO/Siheterojunctionsissimilartotraditionalsemiconductorpnjunction.However
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