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LECTRO-NIC?10-03 HSX (亚洲版) 使用可溶性阳极的镀镍工艺 简介 LECTRO-NIC 10-03 HSX 是氨基磺酸盐型镀镍工艺，可产生低应力的、半光亮的、延 展性佳的镍镀层。本工艺尤其适用于作为贵金属和非贵金属镀层的底层。它专门用于可 溶性阳极体系的高速电镀设备。 本工艺主要用于连接器、半导体及其他高可靠性的工件。 设备 槽 衬橡胶，PVC，PVDC，PP 或聚乙稀，衬里需用60g/L磷酸钠在 50℃沥滤8小时，然 后用水冲洗，再用 5~10%硫酸溶液在 60℃沥滤 8 小时，最后用清水彻底冲洗，晾干。 整流器 标准直流电源整流器，安培输出能够满足电镀操作之要求。整流器必须配有伏特计、 安培计和电流连续控制器以准确调节电流。安培计应用安培-分钟计。 过滤 溶液需连续过滤以保持澄清，每小时至少过滤一个循环。泵和滤芯应使用惰性材料。 所有接口用Nyflex管连接。不要用不锈钢。 加热器 加热器应配有恒温调整器以保持操作温度，应使用石英或玻璃材质。不要用不锈钢。 搅拌 需要良好的搅拌维持均匀的金属分布。 阴极移动或溶液循环搅拌。 不要用空气搅拌。 阳极 高纯度的 S 阳极，用电解去极化或镍柱阳极，需要使用阳极袋。阳极袋应浸在含 5%(v/v)硫酸的沸腾水溶液中 5–15 分钟，然后彻底冲洗干净。 溶液的开缸 通常 LECTO-NIC 10-03 HSX 以溶液的形式供应，已包含所有产品，可直接使用。 溶液成分及操作条件 最佳 范围 金属镍 硼酸 氯化镍 LECTRO-NIC 10-03 HSX ADDITION AGENT WETTING AGENT 62A pH 值 温度 搅拌 电流密度 效率 电镀 1 微米所需时间 5 A/dm2 20 A/dm2 g/L g/L g/L mL/L mL/L °C A/dm2 mg/Amin 95%以上 秒 秒 120 110 – 130 40 35 – 45 15 13 –17 40 35 – 50 1.5 1–2 3.8 3–4 58 55–60 尽可能快 根据应用和设备不同而不同，最大可达25 17.7 17.5 – 18.0 60 50 – 70 15 13 – 17 *卷对卷设备用 LECTRO-NIC ANODE ACTIVATOR S。 镀液成分的功能 氨基磺酸镍 提供所需镍离子，通常只通过带出损失。其浓度应维持在最佳值，通过添加高品质高 纯度的氨基磺酸镍来补充金属镍。 硼酸 用作缓冲液，防止溶液 pH 值变化范围过大。也可减少高电流密度区烧焦，应维持在最 佳值以及获得最佳效果。只通过带出损失。 氯化镍 用于改善溶液的导电性，走位能力及阳极耐腐蚀性。为了得到最佳效果，阳极活化剂 应维持在最佳范围。通过分析补加；只通过带出损失。 LECTRO-NIC 10-03 HSX ADDITION AGENT 含有润湿剂和应力消除剂，既可保持镀层低内应力，又可得到半光亮、延展性佳的镀 层。半光亮性是添加剂中应力消除剂的副作用，所以需安培-小时计来维持添加剂的含 量，添加速率为 1.0 mL/Ah。 可通过霍尔槽实验进行控制。对于具体的分析，需要定期取样送达广川化学实验室进 行分析。 WETTING AGENT 62A 需要额外补加时，往往表明溶液含有杂质。 pH 值 pH 值应维持在 3.0–4.0 之间(最好为 3.5)。 可用稀氨基磺酸降低 pH 值；碳酸镍添加在滤芯中可升高 pH 值，不要直接添加在溶液中。 镍的分析 试剂 pH 10 NH4缓冲液： 溶解 54 g NH4Cl 于 200 mL蒸馏水中。加入 312 ml 28–30% 氨水，稀释至 1L。 紫脲酸铵混合物： 在 100 g 氯化钠中加入 0.2 g 紫脲酸铵，充分混合。 步骤 1. 准确移取 2 mL 试样于 250 mL 锥形瓶中，加入 50–100 mL 蒸馏水； 2. 加入 15 mL pH 10 NH4缓冲液 (此时溶液变蓝) ； 3. 加入约 0.5 g 紫脲酸铵混合物； 4. 用 0.1M EDTA