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工艺参数对等离子合成TiN层相结构的影响 - 表面技术
第 卷 第 期 年 月 表面技术
暋 39 暋暋 2 暋暋2010 4
暋暋暋Vol.39暋No.2暋Ar.2010 SURFACETECHNOLOGY
p 暋暋暋47
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工艺研究
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工艺参数对等离子合成TiN层相结构的影响
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王成磊 高原 卜根涛 申罡
( , )
桂林电子科技大学 桂林 541004
[ ] , ,
摘 要 采用双层辉光等离子渗金属技术 在碳钢表面进行反应合成 层 研究了各种工艺参数对合
暋暋 暋 暋 TiN
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成TiN层相结构的影响 结果表明 当TiN层较薄时 表面能起控制作用 TiN层的生长显示出 100取向生长
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趋势 使TiN层系统自由能较低 而当TiN层较厚时 应变能占主导因素 对TiN层生长起主要控制作用 使TiN
{ } , 。 ,{ } 。
层呈现出 111择优取向 有利于TiN层系统自由能的降低 即TiN层随厚度增加 111择优取向生长越明显
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关键词 双层辉光 择优取向 薄膜 相结构
暋 TiN
[中图分类号] [文献标识码] [文章编号] ( )
TG174.42暋 暋 暋 A 暋 暋 暋 1001灢3660201002灢0047灢03
EffectsofProcessParametersonthePhaseStructure
ofTiNLaerb PlasmaSnthesizin
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WANGChen灢leiGAOYuanBUGen灢taoSHENGan
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GuilinuniversitofElectronicTechnolo Guilin541004 China
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Abstract暋TiNlaerwasformedonthesurfaceoflaincarbonsteelb double low lasmasu
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