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准分子雷射 - 郭艳光
指導教師:郭艷光(Yen-Kuang Kuo) 教授
學生:陳正忠
學號:8522026
系別:物理系
班級:三年級乙班
大綱:
前言
准分子基本概念
准分子雷射的種類
准分子雷射的特點
准分子能級結構
准分子雷射的結構介紹
准分子雷射對幫浦源的要求
准分子雷射常採用的幫浦方式
電子束幫浦的XeF准分子雷射
快速放電幫浦的XeF雷射
准分子雷射在醫療方面的應用
准分子雷射加工之應用
雷射武器與雷射同位素分離
結論
參考書目
前言:
自1970年第一台准分子雷射問世以來,人們研制成功了多種准分子雷射,並在同位素分離,雷射加工之應用,醫療應用等方面作出貢獻.在雷射武器研制方面,它是很有發展前途的雷射之一.迄今,准分子雷射越來越多,激勵方式也不斷的改進,功率和效率不斷提高.脈衝輸出能量已達百焦耳量級,脈衝峰值功率達千瓦以上,重複率達200次/秒,光束散角0.15mrad.
准分子基本概念:
准分子雷射的工作物質是准分子氣體.CO,N,等氣體分子,它們在一般狀態下,如果沒有外來影響,例如:加熱,光照或電子碰撞,不會自行分解成其他分子或粒子.准分子則不然.准分子就是一種處於激發態的複合分子.在標準狀態下,即在基態時,它處於分離狀態,而在激發態時,處於分子狀態.也就是說,這種分子只存在於激發態,不存在於基態.基態時,分子在很短的時間內(幾十毫微秒)自動分解成離子或其他分子.這種分子英文名字叫Excimer,它是Excited dimer的縮寫.而異核原子形成的准分子叫Exciplex,它是Excited complex的縮寫.准分子雷射是電子態之間躍遷發射雷射.雷射波長多在紫外區,和真空紫外區,因此,准分子雷射又稱紫外雷射.
准分子雷射的種類:
准分子雷射的種類很多,主要有:
(1)惰性氣體准分子 (如Xe,Kr,Ar等)雷射
(2)金屬蒸氣准分子 (如Hg,Mg等)雷射
(3)惰性氣體鹵化物准分子雷射 (如XeF,XeBr,ArCl,XeCl,ArF,KrF等)
(4)金屬蒸氣鹵化物准分子 (如HgCl,HgBr等)雷射
(5)三原子惰性氣體鹵化物准分子 (如KrF,XeCl等)雷射
(6)惰性氣體氧化物准分子 (如KrO,XeO,ArO等)雷射
表(一) 准分子雷射及其波長(μm)
Xe Kr Ar XeO ArO KrO XeF XeCl XeBr 0.172 0.1457 0.1261 0.55 0.5576 0.5578 0.3511 0.308 0.2818
KrF KrCl ArF HgCl 0.2484 0.223 0.1933 0.5584 (四) 准分子雷射的特點:
准分子一旦躍遷到激發態就形成穩定束縛分子態.
准分子躍遷至基態釋放出能量就立即解離,即表示它的基態永遠找不到准分子.
准分子雷射一般是電子態之間的躍遷,雷射波長多在紫外或真空紫外區.
由於基態壽命很短,既使是超短脈衝情況下,基態也可以是空的,因此准分子體系對產生巨脈衝特別有利.
由於激光下能級是基態,基本上沒有輻射損耗,因此量子效率很高(幾乎100%),這是准分子雷射可能達到高效率的主要原因.
由於激光下能級的分子迅速解離,故無”瓶頸”效應,因而拉長脈寬度和高重複率工作都沒有困難.
准分子雷射不會出現像氮分子雷射那種 ”自終止”現象(即雷射的脈衝寬度有一定限制),只要激發速度足夠高,而且能維持放電的均勻輝光,那麼光脈衝的重複率及雷射脈衝寬是沒有什麼限制的.
(7) 准分子下能級為連續排斥態,因此不存在旋轉---振動能級.
對應於每一上能級的分立能態就有一個連續的發射譜,所以
有可能實現准分子雷射的寬頻帶的連續調諧.
也就是說:由於准分子的熒光光譜為一連續帶,故可做成頻率
可調諧器件.
(五) 准分子能級結構:
因為各准分子的能級結構有許多共同之處,以圖(一)來說明它們的特性.圖中A表示較高激發態,B表示激光上能級,C表示基態.基態能級為激光下能級.由於基態為排斥態,或弱束縛態,很不穩定,它沿著自己的位能曲線C極快地向核間距R增大的方向移動,直至最終解離成獨立的原子,基態分子也就消失.基態分子的壽命極短,為10s量級.激發態為束縛態,其能級壽命為10s量級,比基態穩定,因此在核間距R處很容易形成B,C間的粒子數反轉分布.
准分子以激發態向基態躍遷可以說是以束縛態向自由態(弱束縛態或排斥態)躍遷.這種躍遷,由於下能級近似是空的,因此不存在低能級被充滿而終止反轉的問題.也
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