原创力文档- 1、本文档共5页，可阅读全部内容。
- 2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
查看更多
亚微米深度位相型衍射光栅的研制及其失效分析
2012 4 April ，2012
年 月
失效分析与预防
7 2 Vol． 7 ，No． 2
第 卷 第 期
亚微米深度位相型衍射光栅的研制
及其失效分析
1 2 1 1 1
， ， ， ，
田红彦 齐欣平 龚勇清 周张钰 苏兆国
(1． ( )， 330063 ;
无损检测技术教育部重点实验室 南昌航空大学 南昌
2 ． ， 13004 1)
吉林省特种设备监督检验中心 长春
［ ］ ， ;
摘 要 提出了一种亚微米深度的纯位相型玻璃衍射光栅制作工艺 采用光刻制栅方法对要制作的光栅结构进行了分析
AUTOCAD MATLAB ，
用 绘图软件绘制光栅的排列布局以及 软件对设计出的图案进行衍射图样模拟 在基于数字微镜的光刻
， ; ，
机上进行曝光 由涂覆光刻胶的铬玻璃上得到缩微图案 观察了单色激光的夫琅禾费光栅衍射图样 以确定最终的设计图
; ， ，
案 用电子束刻蚀方法得到的铬掩膜板进行常规光刻工艺处理 得到纯位相型的衍射光栅 最后通过对衍射光栅的衍射图案
。 : ，
的失效性分析确定最佳的光刻工艺 结果表明 利用光刻制栅方法不仅可以在玻璃上制得纯位相型光栅 同样也可以在硅
、 ， ， 。
片 金属等其他基底上制得光栅或其他光学重复单元 方法可行 且材料成本不高
［ ］ ; ; ;
关键词 亚微米 位相型 衍射光栅 失效分析
［ ］TH744 ． 1 ［ ］A doi :10 ． 3969 /j ． issn． 1673-6214 ． 20 12 ． 02 ． 008
中图分类号 文献标志码
［ ］1673-6214 (20 12)02-0099-05
文章编号
Development and Failure Analysis of Phase Diffraction
Grating with Sub-micron Depth
TIAN Hong-yan1 ，QI Xin-ping2 ，GONG Yong
文档评论（0）