光学尺制作及量测验证-AOIEA.PDF

論文全文請參考論文集光碟 光學尺製作及量測驗證 董書屏 簡麗珍 陳建文 戴鴻名 量測中心 量測中心 量測中心 量測中心 Danieldong@itri.org.tw JANE_C@itri.org.tw chaoster@itri.org.tw HMTai@itri.org.tw 摘要 光學尺是精密產業設備中極重要的關鍵組件。光學尺的組成包含計量尺及光學讀頭，藉由光學尺尺面 上的刻劃的編碼圖案，判斷讀頭的位置。光學讀頭與高精度之光柵編碼圖案相對運動，能夠產生連續 變化之光強變化，透過光感測器轉換為訊號，輸出至後端的解相位控制器，計算出兩者相對位置。故 此，計量尺為光學尺移動定位之參考基準 。計量尺圖案與長度決定光學尺精度，為影響系統整體性能 最重要因素。 本文主要介紹現階段光學尺技術成果，以電子束微影技術進行光柵圖案加工，加工精度均受嚴格控制。 目前與雷射繞射光學編碼讀頭(Laser Diffraction Encoder) 配搭，並藉由光學尺驗證系統所得之構想， 實現高精度光學尺製程開發 。實驗結果顯示，位移150mm 範圍，量測誤差控制在+/- 2.5 μm 範圍 內 。 關鍵字：電子束微影技術(E-beam Lithography) ，線型光學尺(Optical Linear Encoder) ，雷射繞射 光學編碼讀頭(Laser Diffraction Encoder) ，光柵(Grating) 壹 、前言 線型光學尺(optical linear encoders)是所有產業設備相當重要的關鍵組件之一，線型光學尺的組成包 含計量尺(scale)及光學讀頭(Read head) ，計量尺上具有尺寸精準的圖案(Optical reference mark) ， 主要作為位置之計數判斷。一般計量尺圖案設計則常以高精度光柵(Grating)為主，在光學讀頭上具有 微型光學系統，藉由讀頭與光柵尺相對運動關係，產生連續變化之光強變化。透過光感測器 (Photodetector)轉換光電訊號，輸出給後端解調控制器，計算出兩者相對位置。計量尺光柵精度與 長度決定量測穩定性與量測範圍。雖然目前奈微米製程技術相當進步，但因加工面積不斷擴大，精度 則被要求不斷被要求提升。本文主要介紹介紹量測中心目前光柵尺開發現況，設計驗證以電子束微影 製程製作高精度光柵圖案 。 貳 、研究方法 我們所提出用以電子束微影技術(E-Beam Writing Lithography)製作光柵圖案，以6”矽晶圓為底材， 圖一所示 ，以 1.6 μm 週期，線寬 0.8 μm 製作 。底層為銅，厚度為 50nm ，中層為二鋁化銅，厚度 為 600nm ，最上層為保護層SiO2 ，厚度為100nm ，如圖1(a)所示 。圖1(b)為 6 吋未裁切光柵尺， 最長可達 17cm. 圖二(a)為 5 萬倍下電子顯微鏡照片圖案。 (a) 光柵結構 (b) E-beam 製作 6”晶圓 圖1 ：以電子束微影製程製作光柵尺 7 論文全文請參考論文集光碟 (a) 光柵結構電子顯微鏡側壁照 (b) 光學尺讀頭與光柵尺位移實驗 圖2 ：光柵實驗照片 光學尺訊號讀取方式以都卜勒原理，將讀頭上雷射光打致光柵尺上，透過平台運動變化，使將高階光 學訊號產生頻率改變 ，而透過差頻光干涉的方式，將位移相位訊號讀值記錄。圖二(b)為光學讀頭和光 柵尺與 HP5529A 進行位移比對實驗。 參 、研究成果 實驗比對結果如圖 3 顯示，以電子束微影製作之光柵尺從 0mm 位移至 150mm 在無塵室溫控 20 度 C 正負 1 度進行實驗，獲得最大殘差範圍由+2.5μm 至-1.5 μm ，長度變化在百萬分之 2.5 變化內， 矽熱膨脹係數為2.5ppm/ 。C ，在溫度小於 1 度 C 和 HP5529A 進行比