机的改装与应用机的改装与应用.PDF

以電子顯微鏡為基礎之電子束曝光以電子顯微鏡為基礎之電子束曝光 機的改裝與應用機的改裝與應用 Scanning-Electron-Microscope-BasedScanning-Electron-Microscope-Based E-BeamE-Beam WriterWriter andand ItsIts ApplicationsApplications inin thethe FabricationFabrication ofof Nano-ElectronicNano-Electronic OevicesOevices 陳啟東、吳憲昌陳啟東、吳憲昌 Chii-DongChii-Dong ChenChen ,, Cen-ShawnCen-Shawn WuWu 曝光及成像是奈米曝光及成像是奈米結結構製程中的一項關鍵技術構製程中的一項關鍵技術 。。 在新元件研發過程中，往在新元件研發過程中，往往往希希望望能在短時間內能在短時間內 不需光罩就可以不需光罩就可以作作成奈米結構成奈米結構 ，， 電子束電子束曝曝光光技技術術提提供了一套很適合這目的的解決方案。以電供了一套很適合這目的的解決方案。以電 子顯微鏡改子顯微鏡改裝裝成的成的簡易電簡易電子束曝光機在性能上子束曝光機在性能上雖雖比不上設計精良的比不上設計精良的專業專業化化電電子束曝光機，但子束曝光機，但 在很多情況下可以在很多情況下可以符合研發符合研發工作的要求，可工作的要求，可說是經濟實說是經濟實用的方案用的方案 。在這篇。在這篇文文章章中，筆者簡中，筆者簡單單 的介的介紹紹 了了 電電子子束微影束微影的的技技術術 也敘述了我們改也敘述了我們改裝電裝電子子顯微顯微鏡的鏡的經驗經驗及及需注意需注意的的關關鍵技術鍵技術 。。 ElectronElectron beambeam lithogrlithograaphyphy isis aa quickquick andand perfectperfect solutionsolution forfor thethe fabricationfabrication ofof smallsmall amountamount ofof prototypeprototype nano-scalednano-scaled structuresstructures wherewhere frequentlyfrequently changeschanges inin designdesign areare necessarynecessary andand thethe conventionalconventional photolithographyphotolithography withwith opticaloptical masksmasks isis foundfound ineffective.ineffective. AlthoughAlthough aa simplysimply constructedconstructed scanningscanning--electronelectron--microscopemicroscope (SEM)(SEM)-b-basedased ee-beam-beam writerwriter cancan notnot bebe onon aa parpar withwith thethe commerciacommerciallllyy availableavailable multi-million-dollarmulti-million-dollar ee-b-beameam writerswriters ,, itit offersoffers aa cost-effectivecost-effective solutionsolution forfor thethe researesearrchch andand developmentdevelopment laborato