用离子熔融法在金属_半导体及介电材料上镀覆碳化钼涂层.pdfVIP

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2017-06-26 发布于浙江
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用离子熔融法在金属_半导体及介电材料上镀覆碳化钼涂层.pdf

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用离子熔融法在金属_半导体及介电材料上镀覆碳化钼涂层

2001.3(123) ! 43 ! 确定了用离子熔液电解法使碳化钼在金属材料金刚石碳化硅和碳化硼颗粒上电镀层的积电镀层可以提高金属材料的抗磨损,研磨和破坏性能, 提高其湿润性和金刚石碳化硅和碳化硼的工作效率碳化钼电镀层熔融物电解积 Mo2C(Na2MoO4 5 ) ,2~ 4 Na CO , 2 3 , Na CO 2 , 2 3 :, MoMo C , 4 , 2 , Mo2C800~ 950∀ ( : , ) 800∀ , 10 m, , KWONaWO NaCl ;750~ 800∀ , 2 4 4 LiF( 3 1) : ( 2 3 2 ) ik = 1.0# 10 ~ 1.0# 10A/m , ,, [1,2] ,, , , 2 , [3] 1.0# 10A/ 2 [4] m (1), , , 2 2 [ 5] i 1. 0# 10A/m , , k [6] , , M7 , ,, 1. 0~ 2 2 1.5!10A/m , Li2MoO4 2. 5~ 7.5 ,Li CO 2.5~ 10.0 , 2 3 KNa/WONaMoOLi COLi CO 4 2 4 2 3 2 3