闭环控制靶电压直流磁控反应溅射沉积AIN薄膜.PDF

第34卷第7期 太阳能学报 V01．34．No．7 2013年7月 ACTAENERGIAESOLARISSINICA July，2013 文章编号：025441096(2013)07．1136-05 闭环控制靶电压直流磁控反应溅射沉积AIN薄膜 池华敬，郭 帅，熊 凯，王 双，陈 革，章其初 (皇明太阳能股份有限公司镀膜研发中心，德州253000) 摘 要：在原磁控溅射三靶镀膜机上安装了UPS03反应溅射闭环控制单元，替代原有的级差法控制流量计改变反 应气体流量的方法，实现反应溅射A1N反馈控制。该控制单元由UPC03型控制器和PCV03型压电陶瓷阀组成。 控制器实时采集直流电源的Al靶电压信号，与设定电压进行比较计算处理，输出电压控制信号至压电陶瓷阀，调 节输出N：流量，实现m靶电压稳定控制。在靶表面处于过渡态下，成功制备了吸收几乎为零的A1N薄膜。溅射 约为m靶在无反应气体溅射下沉积灿薄膜速率的80％。溅射沉积的A1N薄膜作为减反射层应用到SS—A1N太阳 选择性吸收涂层中，使得太阳吸收比高达