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清洁半导体表面;引言;6.1 Si(100)面6.1.1 原子结构;以二聚体模型讨论Si(100)面再构;对称和非对称二聚体间能量相差很小,但是若非对称翘曲的二聚体更为有利。图6.1.2是一个非对称翘曲二聚体模型。
Chadi从能量极小理论计算得:d1=2.38?, d2=0.20?, d3=0.48?。 d1是二聚体键长,d2是第一层平均向内弛豫。
杨威生用LEED研究得: d1=2.54?, d2=0.11?, d3=0.40?, d4=0.60?;还证明在形成非对称二聚体再构时还产生很深的弛豫,深度可达4~5原子层。;利用STM对Si(100)面研究;6.1.2 Si(100)面邻位面;各台阶能量大小顺序:E(SA) E(DB) E(SB) E(DA).
SL台阶是亚稳定的,DL台阶是稳定的,但DA只是理论存在。
各种不同台阶结构的产生取决于热处理温度θ和偏位角θ 。参考图6.1.5.
若考虑了应变弛豫和台阶热粗糙化因素,SL台阶在表面转化为DL台阶表面时存在一个临界角θc。
θc ≈20, SL台阶在表面转化为DL台阶表面。
θ =2.50时,存在SL和DL的混合相。
;6.1.3 Si(100)面电子性质;6.2 Si(111)面6.2.1 Si(111)-(1×1)与Si(111)-(2×1) ; Si(111)-(2×1)再构的翘曲模型; “π键链重构”模型;6.2.2 Si(111)-(7×7);Si(111)-(7×7)的电子结构与原子结构;Si(111)-(7×7)的电子结构与原子结构;6.2.3 Si(111)的临位面;扫描隧道显微镜 Scanning Tunneling Microscope (STM);STM的发明;扫描隧道显微镜的基本原理;隧道电流I与间距S成关系,当距离减小0.1nm,隧道电流即增加约一个数量级。 根据隧道电流的变化,我们可以得到样品指数表面微小的高低起伏变化的信息,如果同时对x,y方向进行扫描,就可以直接得到三维的样品表面形貌图。;STM的结构;探针:隧道针尖大小、形状和化学同一性影响着STM图象的分辨率和图象的形状和测定的电子态。目前采用方法是先进行精细的机械研磨,再作电解研磨。
扫描机构:主要由压电陶瓷元件构成。控制加在压电陶瓷元件上电压的大小,可实现扫描范围的变化。
粗调定位器:是STM的重要组成部分,它把探针和试件表面的间距从几毫米缩小到1nm,并能保持试件的精确定位。通常采用三维压电惯性步进器作为粗调定位器。
振动隔离系统:有效的振动隔离是STM达到原子分辨率的必备条件之一。???绝振动的方法主要靠提高仪器的固有振动频率和使用振动阻尼系统。
电子学控制系统:控制探针和试件的距离变化驱动探针做x,y方向的扫描,提取处理隧道电流信号和陶瓷压电元件上的电压间信号,进行三维图象的显示。
;STM的工作过程;STM的实验步骤;STM的扫描模式----恒电流模式 ;STM的扫描模式----恒高度模式 ;影响仪器分辨率和图像质量的因素;STM的应用;STM的应用;STM的应用;STM的优势与限制;STM的优势与限制
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