准分子激光直接刻蚀单晶硅研究!-激光制造网.PDF

年 月 西 北 工 业 大 学 学 报 ]G) $’’’ $’’’ 4 第 卷第 期 4 ? \Y]05S^Y_‘Y0EFHCWEC05UY^VECDF5BDS^a5BbC0WBEV OY^)4‘Y)? 准分子激光直接刻蚀单晶硅研究! 马炳和 苑伟政 李铁军$ 李晓莹 王丽戈$ # # # # 西北工业大学 飞行器制造工程系 陕西 西安 西北核技术研究所 陕西 西安 % # ’’$($) # ’’$*+ 摘 要 与传统的投影曝光微细加工方法相 比 激光直写具有高柔性 低成本和胜任三维微型结构 , # - 加工的优点 采用非稳腔的聚焦准分子激光 对单晶硅材料进行直接刻蚀 从微结 . % #3$*4 + # /01 2 56 构刻蚀的形状尺寸及加工过程的热效应等方面研究了准分子激光直接刻蚀单晶硅的加工特性.重 点考察了加工中的热效应 研究表 明准分子激光与被加工材料的相互作用并非完全基于非热机理 # # 加工过程亦有热作用参与 进一步提 出了准分子激光刻蚀加工的 热影响区 概念用 以评价和解释 # 7 8 准分子激光的 冷加工 特性 同时观察分析了脉冲激光对硅基底造成的破坏现象 讨论了冲击作用 7 8 . # 的成因. 关 键 词 准分子激光 直接刻蚀 冷加工 特性 热影响区 冲击破坏 , # #7 8 # # 中图分类号 , ; 文献标识码 , 文章编号 ,’’’=$4%$’’’+’?=’*@=’ 9: 微结构加工 中的直接刻蚀 方法 % + AB0CDECEDFB5G 属于直写 加工 直写指不引入 图形 % + . AB0CDEH0BEB5G R 准分子激光直接刻蚀实验 转印过程直接在材料上加工得到微型结构.相对于 应用曝光原理的其它微细加工方法 如光刻制版术 % - R)R 实验装置 或准 技术等 直写具有简捷 灵活 成 IJK IJK +# - - 实验装置及加工光路如图 所示 采用 . IS6TAS 本低和适应立体微结构制作 的显著优势 在微结构 # 公司的 型准分子激光器 以 UFVWBX