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中科院兰化所氧化石墨烯基三层薄膜构筑取得新进展
中科院兰化所氧化石墨烯基三层薄膜构筑取得新进展
中科院兰州化学物理研究所利用环氧基团/羧基与氨基基团的化学反应,将氧化石墨烯片(GO)共价组装到3一氨基丙基三乙氧基硅烷(AwEs)自纽装单层膜修饰的硅基片上,使薄膜摩擦学性能得到一定的改善、然而,由于氧化石墨烯表面较高的亲水性使得该表面和AFM探针问的粘看力较强。为减少粘着力,可通过热还原过程来减少氧化石墨烯表面含氧基团的含量。但该过程耗能较高,且需在氩气氛下进行
近日,该所在石墨烯基多层薄膜的构筑及其摩擦学性能研究方面取得新进展..在由氧化石墨烯(C0)外层和3一氨基丙基三乙氧基硅烷(APTEs)自组装底层修饰的硅基片上,进一步接枝了十八烷基三氯硅烷(OTS)分子,成功地构筑了疏水的APTFS-GO-011s三层膜。对其微结构和摩擦学性能研究表明,该三层膜呈现低粘着性,且其微观摩擦学性能和宏观摩擦学性能均显著提高,
该所薄膜制备方法简便易行,适于构建纳/微电子机械系统的润滑涂层。该方法亦可应用于其他领域,如可用来改善石墨烯基生物材料的润湿性。
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