EX2自动椭圆偏振测厚仪 - 北京华贺技术有限公司.PDF

北 京 华 贺 技 术 有 限 公 司 B E I J I N G H U A H E T E C H N O L O G Y C O . , L T D . EX2 自动椭圆偏振测厚仪 EX2 自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏” ）椭偏测量原理，针对纳米薄膜厚度测量 领域推出的一款自动测量型教学仪器。 EX2仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。 EX2仪器还可用于同时测量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率n和消光系数k 。 特点  经典消光法椭偏测量原理 仪器采用消光法椭偏测量原理，易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。  方便安全的样品水平放置方式 采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。  紧凑的一体化结构 集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB 接口与计算机相连，方便使用。  高准确性的激光光源 采用激光作为探测光波，测量波长准确度高。  丰富实用的样品测量功能 可测量纳米薄膜的膜厚和折射率；块状材料的复折射率、样品反射率、样品透过率。  便捷的自动化操作 仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。  安全的用户使用权限管理 软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、操作者等模式），便于仪器管理和使用。  可扩展的仪器功能 利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光 等。 北京华贺技术有限公司 北京朝阳马甸裕民路12号元辰鑫大厦 E2 座 2317室, 100029 电话: 8610 邮箱: huahe@ 网站: 北 京 华 贺 技 术 有 限 公 司 B E I J I N G H U A H E T E C H N O L O G Y C O . , L T D . 应用 EX2适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数 k 。 EX2可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科 学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。 技术指标 项目 技术指标 仪器型号 EX2 测量方式 自动测量 样品放置方式 水平放置 光源 He-Ne激光器，波长632.8nm 膜厚测量重复性* 0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO 膜层) 2 透明薄膜：1-4000nm 膜厚范围 吸收薄膜则与材料性质相关 折射率范围 1.3 – 10 探测光束直径 Φ2-3mm 入射角度 30°-90° ，精度0.05° 偏振器方位角读数范围 0-360° 偏振器步进角 0.014° Z轴高度调节：16mm 样品方位调整 二维俯仰调节：±4° 允许样品尺寸 样品直径可达Φ160mm * 用户权限设置 配套软件