搅拌在Ni-diamond 复合电沉积中的电化学行为 - 西北有色金属研究院.PDF

第43 卷 第2 期 稀有金属材料与工程 Vol.43, No.2 2014 年 2 月 RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING February 2014 搅拌在Ni-diamond 复合电沉积中的电化学行为 1 1 1 2 周海飞 ，钱洲亥 ，祝郦伟 ，杜 楠 ( 1. 浙江省电力公司电力科学研究院，浙江 杭州 310014) (2. 南昌航空大学，江西 南昌 330063) 摘 要：在测定Ni-diamond 复合电沉积体系阴极极化曲线、电化学阻抗谱及微分电容曲线等基础上，分析了搅拌强度 对界面双电层的影响规律，推断出复合量随搅拌强度增强的变化趋势，以此探讨搅拌强度在 Ni-diamond 复合电沉积中 的电化学行为。结果表明：Ni -diamond 复合体系于搅拌强度在440~480 r/min 时具有更大的阴极极化、更大的法拉第电 阻及更低的双电层电容，致使微粒具有更高的电泳速度，且此时阴极表面在析出电位附近荷正电，而过强或过弱的搅 拌均使电极表面荷负电。电化学测试结果表示搅拌强度在440~480 r/min 时可具有更高的复合量，工艺实验结果与电化 学测试结果相吻合。 关键词：搅拌强度；复合电沉积；Ni-diamond 中图法分类号：TG 174.44 文献标识码：A 文章编号：1002- 185X(2014)02-0470-05 复合电沉积是通过电沉积方法使金属与固体微粒 阻抗测试技术也是研究电极反应动力学及电极界面现 [1] 共沉积以形成特殊镀层的过程 ，它可根据设计要求 象的重要电化学方法。“电极/溶液”界面的许多重要性 [2] 改变和调节材料的机械、物理及化学性能 。自 1920 质都是相对于零电荷电位的数值所决定或参与决定的， [14] 年德国科学家获得第一个复合镀层以来，由于对特定性 其中最主要的有表面剩余电荷的符号与数量等 ，这 [3] 能先进材料的需求及对电沉积过程综合模型的需要 ， 可通过微分电容曲线获得。然而，目前尚无针对搅拌 [4- 10] 复合电沉积技术引起了人们极大的研究热情 ，已 参数进行的电化学研究。 [15] 广泛应用于航空、电子、化工、冶金与核能等工程技 已有研究表明 ，作为增强项的金刚石微粒不仅 术领域。 可提高镀层耐磨性，也使镀层在5%（质量分数）NaOH 、 镀层性能通过微粒复合量调整，搅拌则是控制复