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现代电子信息技术现况与发展趋势
现代电子信息技术的现状及发展趋势 ;;;;*;电子技术的应用;基本器件的两个发展阶段;分立元件阶段;分立元件阶段;;;集成电路阶段;集成电路阶段; 以集成电路为核心的电子信息产业超过了以汽车、石油、钢铁为代表的传统工业成为第一大产业,已经成为改造和拉动传统产业迈向数字时代的强大引擎和雄厚基石。
目前,发达国家国民经济总产值增长部分的65%与集成电路相关, 美国国防预算中的电子含量已占据了半壁江山。预计未来10年内,世界集成电路销售额将以年平均15%的速度增长,2010年将达到6000~8000亿美元。
作为当今世界经济竞争的焦点,拥有自主知识产权的集成电路已日益成为经济发展的命脉、社会进步的基础、国际竞争的筹码和国家安全的保障。????; 集成电路的集成度和产品性能每18个月增加一倍。据专家预测,今后20年左右,集成电路技术及其产品仍将遵循这一规律发展。 ?
集成电路最重要的生产过程包括:
开发EDA(电子设计自动化)工具
利用EDA进行集成电路设计
根据设计结果在硅圆片上加工芯片(主要流程为薄膜制造、曝光和刻蚀)
对加工完毕的芯片进行测试
为芯片进行封装
最后经应用开发将其装备到整机系统上与最终消费者见面。; 美国芯片微细加工技术目前正在从亚微米向纳米技术过渡,2002年3月,Intel公司宣布其已采用0.09微米工艺生产出面积仅为1平方微米的SRAM。
超紫外光刻技术(EUV)被视为是保证摩尔定律今后依旧适用的法宝。EUV技术可使半导体制造商在芯片上蚀刻电路线的等级达到0.03微米。比现有制造技术所产生的芯片性能提高100倍,存储容量也可以达到目前的100倍以上。由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室,一直致力EUV的研发,投入开发经费已逾2.5亿美元。
在各芯片厂商都以面积最小化、功能最大化作为发展方向的趋势中,将整个电子系统全部集成到一块单芯片之中的SOC越来越呈现出重要性。集微处理器、快闪存储器和数字信号处理器为一体的计算机芯片。这种高度集成的芯片将对手持计算机、移动电话和其他移动设备的改进产生巨大影响。; ?我国集成电路产业起步于20世纪60年代,80年代中期我国集成电路的加工水平为5微米,其后,经历了3、1、0.8、0.5、0.35微米的发展,目前达到了0.18微米的水平,而当前国际水平为0.09微米(90纳米),我国与之相差约为2-3代。
?? 2001年全国集成电路产量为64亿块,销售额200亿元人民币。2002年6月,共有半导体企事业单位651家,其中芯片制造厂46家,封装、测试厂108家,设计公司367家,分立器件厂商130家,从业人员11.5万人。设计能力0.18~0.25微米、700万门,制造工艺为8英寸、0.18~0.25微米,主流产品为0.35~0.8微米。
????与国外的主要差距:一是规模小,2000年,国内生产的芯片销售额仅占世界市场总额的1.5%,占国内市场的20%;二是档次低,主流产品加工技术比国外落后两代;三是创新开发能力弱,设计、工艺、设备、材料、应用、市场的开发能力均不十分理想,其结果是今天受制于人,明天后劲乏力;四是人才欠缺。???;*;政府的策略:《中共中央国务院关于加强技术创新,发展高科技,实现产业化的决定》指出:“突出高新技术产业领域的自主创新,培育新的经济增长点,在电子信息特别是集成电路设计与制造、网络及通信、计算机及软件、数字化电子产品等方面,……加强高新技术创新,形成一批拥有自主知识产权、具有竞争优势的高新技术产业”。 ;EDA技术; 集成电路发展目前仍以摩尔定律所揭示的规律向前发展,晶圆的面积也在不断地加大,以软/硬件协同设计、具有知识产权的内核(IP核)复用和超深亚微米技术为支撑的系统芯片(System on Chip-SOC)是超大规模集成电路发展的趋势和新世纪集成电路的主流。 ;;SoC设计中的问题;硬件描述语言HDL的现状与发展 ; 在2001年举行的国际HDL会议上,与会者就使用何种设计语言展开了生动、激烈的辩论。最后,与会者投票表决:如果要启动一个芯片设计项目,他们愿意选择哪种方案?结果,仅有2票或3票赞成使用SystemC、Cynlib和C Level设计;而Superlog和Verilog各自获得了约20票。至于以后会是什么情况,连会议主持人John Cooley也明确表示:“5年后,谁也不知道这个星球会发生什么事情。” 各方人士各持己见:为Verilog辩护者认为,开发一种新的设计语言是一种浪费;为SystemC辩护者认为,系统级芯片SoC快速增长的复杂性需要新的设计方法;C语言的赞扬者认为,Ve
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