奈米钻石石墨研磨垫应用于化学机械研磨移除晶圆氧化层特性之研究.pdf

技術學刊 第二十八卷 第四期 民國一○二年 235 Journal of Technology, Vol. 28, No. 4, pp. 235-241 (2013) 奈米鑽石石墨研磨墊應用於化學機械研磨 移除晶圓氧化層特性之研究 蔡明義 陳建勳* 國立勤益科技大學機械工程系 摘 要 化學機械研磨為半導體製程中唯一可達到全面平坦化的關鍵技術。目前應 用於化學機械研磨製程中的研磨墊，皆以聚胺酯發泡型高分子為主，因其發泡 結構使得研磨墊表面佈滿孔洞可儲存研磨液，但也因孔洞直徑大小不一致，造 成研磨液消耗過度。故本研究在聚胺酯高分子中添入兩種比例之奈米鑽石與石 墨粉末，成型後製成無孔型奈米鑽石石墨研磨墊並搭配組合式鑽石修整器對晶 圓氧化層進行化學機械研磨及機械性質之探討。添入石墨粉末目的在於石墨具 備潤濕性質，可使研磨液充分的潤濕研磨墊表面，而添入奈米鑽石粉末目的在 於使粉末均勻的分佈於研磨墊上，有助於晶圓氧化層移除。實驗結果顯示： DG103 (1%奈米鑽石 3%石墨) 研磨墊之晶圓氧化層移除率比 DG000 (聚胺酯) 研磨墊來得高，且晶圓氧化層表面的均勻性亦較佳。 關鍵詞：化學機械研磨，奈米鑽石石墨研磨墊，晶圓移除率，研磨墊修整率。 INVESTIGATION OF A NOVEL NANODIAMOND-IMPREGNATED POLISHING PAD FOR OXIDE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING Ming-Yi Tsai Chien-Hsun Chen* Department of Mechanical Engineering National Chin-Yi University of Technology Taichung County, Taiwan 411, R.O.C. Key Words: chemical mechanical polishing, polishing pad, diamond disk. ABSTRACT This paper presents a chemical mechanical polishing pad by impreg- nating a polyurethane matrix with nanodiamond (5-10 nm) and graphite particles. Two types of pads-one containing 0.1 wt% nanodiamond with 3 wt%graphite and the other comprising 1 wt% nanodiamond with 3 wt% graphite-were