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icp2aes 法测定金属硅中杂质元素 - 冶金分析.pdfVIP

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  • 2017-09-06 发布于天津
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icp2aes 法测定金属硅中杂质元素 - 冶金分析.pdf

    第卷第期冶金分析年月文章编号法测定金属硅中杂质元素成勇肖军宁燕平胡金荣攀枝花钢铁研究院四川攀枝花摘要以挥发除去基体后电感耦合等离子体光谱法对金属硅中等个可能共存的杂质元素同时定量测定并用差减法计算出基体元素硅的含量只需一次测定即能实现金属硅样品的全分析试验了共存元素间的干扰影响情况优选了元素分析谱线和仪器工作参数运用同步背景校正法系数法来消除共存元素间干扰和试液雾化进样的物理化学因素影响方法简便快捷易于操作掌握测定回收率精密度检出限均取得了满意结果关键词金属硅杂质元素全分析中图分类号文献标识码依

    第 25 卷第 3 期 冶 　金 　分 　析 Vol . 25 , No . 3 　　　　　　　　　　　　　　　　　 2005 年 6 月 Metallurgical Analysis 　　　　　　　　　　　　　　 J une , 2005 ( ) 文章编号 :1000 - 757 1 2005 03 - 0076 - 04

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