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X射线形貌术.pdf
X 射线形貌术及高分辨 X 射线衍射方法
3.11.9.1 X 射线形貌术
X 射线形貌术又称 X 射线貌相术,是用来研究晶体缺陷的技术之一。从 1931 年 Berg 用
单色 X 光辐射拍摄岩盐解理及变形后的表面反射衍射像,观察到滑移线开始,经过多年的
发展,尤其是 20 世纪 60-70 年代半导体工业的发展要求,发展了多种 X 射线衍射形貌技术,
目前已广泛地应用于晶体的缺陷研究中。这种研究手段所具备的一个重要特点是样品制备简
单,且对大多数样品没有损伤。其主要限制是只能用来研究低缺陷密度。
X 射线衍射形貌相技术是基于 X 衍射线在晶体中有缺陷的区域和完整区域对 X 射线散
射强度的差异来研究晶体缺陷的,本节将先简单地介绍 X 射线形貌相的成相衬度原理,然
后介绍几种常用的 X 射线衍射形貌术的方法、分辨率、一般拍摄 X 射线形貌的过程以及形
貌相的分析等。
一、X 射线衍射的强度分布与 X 射线衍射形貌相的衬度
X 射线衍射形貌相实际上记录的是晶体不同区域对 X 射线散射的强度分布。我们知道,
当满足Bragg 条件2d sinθ nλ时,晶体产生相干散射,衍射强度最大,这里d 、θ、λ、n
分别是晶面间距、入射线与衍射晶面的夹角、X 射线的波长和衍射级次。对于完整晶体,底
片上记录到的是均匀的 X 射线衍射强度。当晶体中存在缺陷时,将引起晶体的局部应变,
当缺陷密度较高时,还会形成镶嵌缺陷,而使晶体的取向发生相对转动。当晶体内存在应变
或镶嵌缺陷时,晶体中的偏离完整晶体结构部分将偏离 Bragg 衍射条件,如图 1,而使这些
部分的 X 射线的散射强度发生变化,因而在底片上形成了衬度。图 1 (a )表示晶体中由于
应变使得晶体中晶面间距为 d2 的畸变区不能满足完整晶体区d1 的Bragg 衍射条件,而需改
变入射角,即使考虑 X 射线入射束的发散角,在 d2 区的衍射因方向发生一定的变化也会而
出现衬度。图 2 (b )中的 I 区和 II 区的取向不一致,因而满足 I 区衍射条件不能同时满足
II 区,在底片上形成衬度。
图 1 晶体中存在应变和取向缺陷时,衬度的形成原理
以上是非常简单的基于 X 射线运动学理论的形貌相衬度形成原理,适用于非常薄的或
缺陷严重的晶体。对于近完整晶体,以上成相原理解释有时与实际情况不符,而需要用到 X
射线衍射动力学理论或 X 射线散射统计动力学理论。X 射线动力学理论,主要考虑了入射
束和衍射束的相互作用,在求解 Maxwell 方程时,要求满足晶体的周期势场的要求。其具
体过程非常复杂,将不在此介绍,有兴趣的读者可参阅有关书籍,如参考文献中 Tanner 撰
写的“X 射线形貌相术”专著的第一章,更细致的了解可参阅 Pinsker 的“X 射线在晶体中
的动力学散射”专著。目前在解释X 射线形貌相动力学衬度和计算模拟 X 射线形貌相中普
遍运用 Takagi 的通常称作高木方程的畸变晶体动力学衍射理论。
通常 X 射线形貌相的衬度可以根据晶体的厚度(相对于 X 射线的吸收而言)分为
运动学像,对应于µt~1 ,µ、t 分别为线吸收系数和晶体的厚度,运动学衬度也叫
直接像,如图 2(a) ,其附加的强度由缺陷对入射光的X 射线的散射形成。
动力学像,对应于µt~3 ,衬度由动力学效应产生,缺陷为负衬度,如图2 (b )。
中间像,对应于~1µt~3 ,衬度由复杂的相干效应产生如图2 (c )。
图2. X 射线的运动学、动力学和中间形貌相 (a) 运动学像;(b) 动力学像 (c) 中间像。
有时在一张照片上会同时出现以上三种衬度,如在拍摄硅单晶中的氢致缺陷的截面形
貌相时,就观察到了以上三种衬度的同时出现。
缺陷在形貌相中的衬度,还与缺陷产生的应变场的方向及衍射矢量 g 等有关。如对于
位错,当 g 与 Burgers 矢量b 满足 g •b 1时,衬度最大。对于螺型位错,当g 与b 满
足 g •b 0 时,位错线消象,不显示衬度。衬度最小的条件对于刃型位错则要求更为苛刻,
还须满足 g •( b ×l ) 0 的条件,位错才消
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