5.3.2.1单容贮液箱液位过程I.PDFVIP

过程控制系统与仪表 第5章 5.3.2.1单容贮液箱液位过程I 如图是一个水槽，水经过阀门l 不断地流入水 槽，水槽内的水又通过阀门2不断流出。工艺上要求 水槽的液位h保持一定数值。在这里，水槽就是被控 对象，液位h就是被控变量。 如果想通过调节阀门1 来控制液位，就应了解进 水流量Q1变化时，液位h是 如何变化的。 过程控制系统与仪表 第5章 此时，对象的输入量是流入水槽的流量Q ，对 1 象的输出量是液位h 。 机理建模步骤： Q1 W(S) h 从水槽的物料平衡关 系考虑，找出表征h与Q1关 阀门1 系的方程式。 设水槽的截面积为A Q10 Ql0= Q20 时，系统处于 阀门2 h 平衡状态，即静态。 0 这时液位稳定在h0 Q20 过程控制系统与仪表 第5章 假定某一时刻，阀门1突然开大∆μ ，则Q 突 1 1 然增大，不再等于Q2 ，于是h也就开始变化。 Q 与Q 之差被囤积在水槽中，造成液位上升。 1 2 列写物料平衡方程： 阀门1 dh 1 ＝ （Q −Q ）（1） Q10 1 2 dt A ∆h 其中　　Q k μ　　　(2) 阀门2 1 μ 1 h 0 　　　 Q2 k h 　　　(3) Q20 k —— 阀门2的开度系数；K μ—— 阀门1比例系数； μ—— 阀门1的开度； 1 过程控制系统与仪表 第5章 得到对象的微分方程： dh 1 ( ) k ＝k h μ − 　　　　(4) dt A μ 1 式(4)是非线性微分方程，下面对它进行增量处理 和线性化处