激光直写方法制作透明导电金属网栅 - 光子学报.PDF

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2017-08-05 发布于天津
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激光直写方法制作透明导电金属网栅 - 光子学报.PDF

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激光直写方法制作透明导电金属网栅 - 光子学报

31 10 Vol3 1 No10 2002 10 A CT A PH OT ONI CA SINI CA O ctober 2002 李凤友卢振武谢永军曹召良高劲松孙连春赵晶丽 ( , 130022) 介绍了利用激光直写光刻术在200mm 200mm 基片上制作线宽为5m , 周期为 350m 的红外透明导电金属网栅的工艺过程, 对激光直写光刻术和机械刻划掩模接触光刻制作金属网栅结构的两种方法进行了比较, 给出了激光直写制作金属网栅的优点激光直写光刻; 掩模; 金属网栅; 电磁屏蔽 0 , , , , , , 1 2 , , , , , , , 1~ 10m2 SiO2 , , , 350m7m , 95 % , , 90% , , , , , , , , , , , , , , 0 2m , , 5% , , , 1 20 90 , , 3 , , ,