Ni-Cr-Al-Y涂层真空热处理过程中元素行为.pdfVIP

第 36卷 第 10期 仓 扇 学 碰 V01．36 N0．10 2000 年 10 月 ACTA METALLURGICA SINICA October2000 Ni—cr—Al—Y涂层真空热处理过程中元素的行为 王 冰 黄荣芳 宫 骏 王启民 梁 越 孙 超 (中国科学院金属研究所．沈阳110015．) 韩雅芳J (北京航空材再薪； 京100095) 摘 要 采用电弧离子镀技术在铸造镍基舍盒KI7和N AI基合盒 Ic一6上沉积Ni—c卜A卜Y涂层 结果表明。在沉积过 程中由于电弧离子镀的 溅射”和 “反溅射”效应 噩基体和赫层发生互扩散的共同作用下。沉积的Ni—Cr-AI—Y 涂层在靠近基 体区古有少量基体元素，如C0，Ti和Mo等 KI7台金中的 Al元索可抑制 Cr由棘层向基体扩散 IC-6台金中由于还吉 有Mo元紊，使这种抑制作用进一步增强 在 1050℃真空热处理时。各元索互扩散能力增强．大量的Cr克服 A1和 Mo元素 的束缚 向基体扩散．最踌使两种合金上沉积的Ni-Cr—A1-Y 涂层中的元素均匀分布 f{ 关麓词 N～i-Cr-A1-Y~M，置 璺三 垦 堕生 中国法分娄号 TGI46．15，TGI5695 文献标识码 A 文章编号 0412—1~K2o00)1o一1 EV0LUT10N 0F ELEM ENT DISTRIBUT10N IN 7 Ni—Cr_．Al—Y C0 rING BEF0RE AND AFTER VACUUM HEAT TREATM ENT WANGBing，HUANGRongfang，GONGJunwANGQimin LIANGYue，SUNChao WENLi~hi Institu％eofM etalR皓e耵ch．TheChlneseAcademyofSciences．Shenyao．g110015 月 N Yafan# BoajingInstituteofAeronauticalMaterialsBeijing100095 Correspondent： rAⅣG Bing． f 剐)~ss4SSS1．55292．Fa0 ，D剐J238913~0 M anuscriptreceived 2000~)4一l1．inrevisedform 2000-06—12 ABSTRACT Ni-basedalloyK17andNizA1一basedalloyIC一6wereusedassubstratescoatedwith Ni—C 卜AI—Y coatingdepositedbyarcionplatnig (AIP1Theresultsofthetestsshow thatafeW 0f elementsofCo，TiandMoetc，whichcomefrom substrateswereobservedinnear-surfacezones0fNi— C Al-Y coating Itcorrespondstothe “sputter”and “anti--sputter effectofAIP duringdeposition process． AtomsCrdistributed rfom coatingto substratewereinhibitedbyAlcontained in alloy K17．In alloy IC16withhighconcentration ofMo．therestraintbecomesstronger Duringvacuum heattreatmentat1050℃ ， theactivitiesofvariouselementswere