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VO2薄膜制备及掺杂研究进展 The Preparation and Doping Research Progress of VO2 Thin Film
VO
2薄膜制备及掺杂研究进展
葛振华,赵昆渝,李智东,吴 东,邹 平
(昆明理工大学材料与冶金工程学院,昆明650093)
摘要:二氧化钒(VO:)是一种性能优异的功能材料,在68℃左右发生金属态一半导体态的转变,其光学
和电学性能发生突变,在热电开关、光存储介质和激光防护方面有广泛的应用前景。但是由于钒氧体系
十分复杂,给制备高质量的VO:带来了困难。人们做了许多工作来研究VO:的结构性能,使用不同的
工艺方法制备VO:以及通过掺杂降低其相变温度。本文通过一些有代表性的VO:的研究成果,从制备
工艺和元素掺杂方面做了介绍。
关键词:VO:薄膜;制备工艺;掺杂
中图分类号:TM205.1;0484.4文献标志码:A
The and Research
PreparationDoping
ofVOThinFilm
Progress2
GEZhen—hua,ZHAO Pin
Kun·yu,LIZhi·dong,WUDong,ZOU
Materialsand Science
(Facultyof MetallurgicalEngineering,KunmingUniversityof
and 650093,China)
Technology,Kunming
iSanexcellentfunctional will frommetalstatetosemi.
Abstract:V02 material。it
change
conductor and alsohavea the
about68℃,its electrical
optical properties greatchange,in
heat,electric mediaandlaser havea broad
switches,opticalstorage protectiveaspects
ofvanadium is
prospect.However,becauseoxygensystemverycomplicated,toprepara-
tionof vanadiumdioxidehas havedonea lotof
high—quality broughtdifficulties.People
workto thestructureofvanadium usea lotofdifferentmethodsto
study dioxide,and
vanadiumdioxide,aswellas toreduceits transitiontern-
prepare throughdoping phase
researchresultsofvanadiumdioxide,su
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