300 mm晶圆线超纯水水质浅析 Analysis on the Ultra-Pure Water Quality for 300mm-Wafer Line.pdfVIP

2008年6月 洁净s空调技术CC。4C 第2期 300 mm品圆线超纯水水质浅析 ★ 林耀泽 。 摘要 基于现代超纯水系统的若干实践，浅析现今超纯水水质的难点(TOC、SiO：、微粒的达标)．述评300 mill线水质要求上的现实性。 300 关键词 toni晶圆线，超纯水，永质，总有机碳，微粒，可溶硅 ontheUltra-PureWater for300mm-WaferLine Analysis Quality LinYaoza Abstract onthe water asTOC and madebasedon Analysisulna-purequalityproblem，such particles，is practices． Si02 The of isevaluated． realityrequirements 300ramwafer Keywords line；Ultra-purewater；Water organiccarbon；Particle；Silica quality；Total O 引言 年3月水质验收测定结果列于表l。该系统具有典型 超纯水(UPW)是晶圆生产厂中重要的动力源意义，它与下述的300inls晶圆线的相应系统无异， 之一，其水质准确的要求对于已建、在建和拟建的 其核心均由膜脱气(MDG)、紫外线降解有机物 芯片线皆重要。既然300rain的生产将成为我国半 导体业的主力且大多是在建和拟建线，那么适时地 重视相应的UPW水质要求应是有益的。为此，本文 所的超纯水精处理系统的示意图。为了保证超纯水 简介了两个具有现代水平的UPW系统，尤其是其系 精处理系统的稳定运行，其初级纯水再经紫外线杀 列的实测水质数据；评述当今UPW水质难点，即总 菌(UV)、微孔过滤(MF)和一级膜脱气处理后进 有机碳(TOC)微粒／可溶硅，以运行实践和试验、人精处理系统循环水箱的。该系统已连续无故障运 测试数据为基础且顾及目前在线分析仪表的检测极 行7年。 限，讨论影响此三项水质水平的主要因素；例举我 该系统示于图1，即初级纯水经紫外杀菌 国某300toni晶圆线的(90nln-65mn)UPW水质 理后，接至循环纯水箱；再经TOC—UV和MBP，并 要求及其工艺流程，以美国Balazs发布的UPW规 格和初步的实践、经验为尺度，评论该档次系统的 以超滤(UF)滤除微粒等后送到纯水用水点。 水质要求上的现实性。 表l中细菌采用抽滤培养法检测，TOC、溶解 氧(DO)、微粒分别由AnatelA．1000型TOC分 1 两个UPW系统的水质实测数据 析仪、SwanFAM微氧仪和便携式的PMSNano-100 1．1某研究所超纯水精处理系统 ‘ 型微粒仪检测，SiO．、Na+和CI。是采样分别由无 火焰原子吸收(GFAA)和离子色谱(IC)分析。 2000年某研究所为LSI研发线之需要，引进台 湾极水公司一套15m3／h的超纯水精处理系统。2001 样瓶精心采样，由上海宏力半导体公司以