LiqITO结构表面与界面的AFM和XPS研究 Surface and Interface Investigation of LiqITO by Using AFM and XPS.pdfVIP

下载本文档

5
0
约1.4万字
约 5页
2017-08-12 发布于上海
举报
版权申诉

LiqITO结构表面与界面的AFM和XPS研究 Surface and Interface Investigation of LiqITO by Using AFM and XPS.pdf

1、本文档共5页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

LiqITO结构表面与界面的AFM和XPS研究 Surface and Interface Investigation of LiqITO by Using AFM and XPS

2008 oPToELECTRoNICSNo．3 June SEMlCoNDUCTOR VoI．29 李建丰1’2，孙硕1，欧谷平1，张福甲1 (1．兰州大学物理系，甘肃兰州730000；2．兰州交通大学数理与软件工程学院．甘肃兰州730070) 摘要：采用真空蒸发沉积的方法，在覆盖有IT0膜的玻璃基片上沉积一层Liq。利用原子不平整，存在大量裂缝和空隙，有许多针孔。用X射线光电子能谱(XPS)研究了Liq／ITO紧密接存在裂缝和针孔，这些裂缝和针孔吸附了空气中大量的气体分子；对C1s谱的分析发现，IT0膜表面存在一定的C污染；对N1s谱分析可知，界面处N原子与O、In和Sn原子有相互作用，这将会影响I。iq的发光颜色。关键词：原子力显微镜；X射线光电子能谱；Liq／ITO；表面和界面电子态；有机发光器件中图分类号：TN304 and SurfaceandInterface of AFMXPS InvestigationLiq／ITobyUsing L1 Shu01，OU Jian—fen91”，SUN Gu—pin91，ZHANGFulial of 730000，CHN； (1．DepartmentPhysi岱LaI屹houUnive峭ity，Lanzhou of 2．sch∞IMame呦t王鹤，Physj凹softwareEn昏n∞ring，La皿houJj∞t仰g routine Abstract： was onITocoated vacuum Liq deposited glassby evaporation．The surfaceandinterfaceof were atomicforce Liq／IT0inVestigatedbyusing Thesurface of wascheckedAFM X—rayphotoelectronspectroscopy(XPS)．morphologyLiq by an of in to withareaboth1ateraland forcecontactmodes．XPSwasintroduced topographic study theinterfaceeIectronicstatesof results asisIand unwell— Liq／ITO．AFMLiqgrows shape， distributedandfilm of onITowas with cracksand qualityLiq Veryrough many pores．The xPs thatthe