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LiqITO结构表面与界面的AFM和XPS研究 Surface and Interface Investigation of LiqITO by Using AFM and XPS.pdfVIP

LiqITO结构表面与界面的AFM和XPS研究 Surface and Interface Investigation of LiqITO by Using AFM and XPS.pdf

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LiqITO结构表面与界面的AFM和XPS研究 Surface and Interface Investigation of LiqITO by Using AFM and XPS

2008 oPToELECTRoNICSNo.3 June SEMlCoNDUCTOR VoI.29 李建丰1’2,孙 硕1,欧谷平1,张福甲1 (1.兰州大学物理系,甘肃兰州730000;2.兰州交通大学数理与软件工程学院.甘肃兰州730070) 摘 要: 采用真空蒸发沉积的方法,在覆盖有IT0膜的玻璃基片上沉积一层Liq。利用原子 不平整,存在大量裂缝和空隙,有许多针孔。用X射线光电子能谱(XPS)研究了Liq/ITO紧密接 存在裂缝和针孔,这些裂缝和针孔吸附了空气中大量的气体分子;对C1s谱的分析发现,IT0膜表 面存在一定的C污染;对N1s谱分析可知,界面处N原子与O、In和Sn原子有相互作用,这将会 影响I。iq的发光颜色。 关键词: 原子力显微镜;X射线光电子能谱;Liq/ITO;表面和界面电子态;有机发光器件 中图分类号:TN304 and SurfaceandInterface of AFMXPS InvestigationLiq/ITobyUsing L1 Shu01,OU Jian—fen91”,SUN Gu—pin91,ZHANGFulial of 730000,CHN; (1.DepartmentPhysi岱LaI屹houUnive峭ity,Lanzhou of 2.sch∞IMame呦t王鹤,Physj凹softwareEn昏n∞ring,La皿houJj∞t仰g routine Abstract: was onITocoated vacuum Liq deposited glassby evaporation.The surfaceandinterfaceof were atomicforce Liq/IT0inVestigatedbyusing Thesurface of wascheckedAFM X—rayphotoelectronspectroscopy(XPS).morphologyLiq by an of in to withareaboth1ateraland forcecontactmodes.XPSwasintroduced topographic study theinterfaceeIectronicstatesof results asisIand unwell— Liq/ITO.AFMLiqgrows shape, distributedandfilm of onITowas with cracksand qualityLiq Veryrough many pores.The xPs thatthe

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