LiqITO结构表面与界面的AFM和XPS研究 Surface and Interface Investigation of LiqITO by Using AFM and XPS.pdfVIP
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LiqITO结构表面与界面的AFM和XPS研究 Surface and Interface Investigation of LiqITO by Using AFM and XPS
2008
oPToELECTRoNICSNo.3 June
SEMlCoNDUCTOR VoI.29
李建丰1’2,孙 硕1,欧谷平1,张福甲1
(1.兰州大学物理系,甘肃兰州730000;2.兰州交通大学数理与软件工程学院.甘肃兰州730070)
摘 要: 采用真空蒸发沉积的方法,在覆盖有IT0膜的玻璃基片上沉积一层Liq。利用原子
不平整,存在大量裂缝和空隙,有许多针孔。用X射线光电子能谱(XPS)研究了Liq/ITO紧密接
存在裂缝和针孔,这些裂缝和针孔吸附了空气中大量的气体分子;对C1s谱的分析发现,IT0膜表
面存在一定的C污染;对N1s谱分析可知,界面处N原子与O、In和Sn原子有相互作用,这将会
影响I。iq的发光颜色。
关键词: 原子力显微镜;X射线光电子能谱;Liq/ITO;表面和界面电子态;有机发光器件
中图分类号:TN304
and
SurfaceandInterface of AFMXPS
InvestigationLiq/ITobyUsing
L1 Shu01,OU
Jian—fen91”,SUN Gu—pin91,ZHANGFulial
of 730000,CHN;
(1.DepartmentPhysi岱LaI屹houUnive峭ity,Lanzhou
of
2.sch∞IMame呦t王鹤,Physj凹softwareEn昏n∞ring,La皿houJj∞t仰g
routine
Abstract: was onITocoated vacuum
Liq deposited glassby evaporation.The
surfaceandinterfaceof were atomicforce
Liq/IT0inVestigatedbyusing
Thesurface of wascheckedAFM
X—rayphotoelectronspectroscopy(XPS).morphologyLiq by
an of in to
withareaboth1ateraland forcecontactmodes.XPSwasintroduced
topographic study
theinterfaceeIectronicstatesof results asisIand unwell—
Liq/ITO.AFMLiqgrows shape,
distributedandfilm of onITowas with cracksand
qualityLiq Veryrough many pores.The
xPs thatthe
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