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2017-08-06 发布于浙江
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LargeDiameter Patterned Sapphire Substrates（大口径的蓝宝石基板）

Large-Diameter Patterned Sapphire Substrates (PSS) Rubicon Technology, Inc., the global leader in large-diameter sapphire substrates, has leveraged its unique expertise to create a complete line of Patterned Sapphire Substrates—PSS—in 4 through 8 diameters. We offer fully customizable sub-micron patterning capability with tight dimensional tolerances, within ±0.1 μm. With an edge exclusion zone as small as 1 mm, Rubicon provides you more usable area to maximize the number of chips per wafer. Currently Available Pattern Dimensions Pitch: 3 µm, 2 µm 1.5 µm Pitch under 1 µm available on request Width: 1.3–2.8 µm Dimensional tolerance down to ±0.1 µm Edge exclusion down to 1 mm Height: 0.65–2.0 µm Pitch Base Substrate Options Diameter: 100, 150, 200 mm M-tilt: 0.0 to 0.5°, with tight tolerance (±0.03°) Height Flatness (global and site) Flat Length and Notch: SEMI, JEITA, Pattern Pattern or Custom Thickness: Standard or Custom Lasermark format: Standard or Custom Width We offer a choice of shape and pattern density to optimize your MOCVD