- 1、本文档共7页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性.pdf
第 24卷 第 7期 光学 精密工程 Vol。24 No.7
2016年 7月 OpticsandPrecisionEngineering July.2016
文章编号 1004—924X(2016)07-1557—07
2m大 口径 RB—SiC反射镜的磁控溅射改性
刘 震 ,高劲松,刘 海,王笑夷,王彤彤
(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室,吉林长春 130033)
摘要:为了消除RB-SiC反射镜直接抛光后表面存在的微观缺陷,降低抛光后表面的粗糙度 ,提高表面质量,针对大 口径
SiC的特性,选择 si作为改性材料,利用磁控溅射技术对 2m量级RB-SiC基底进行了表面改性。在 自主研发的 3.2in
的磁控溅射镀膜机上进行基底镀膜 ,利用计算机控制光学成型法对 SiC基底进行 了抛光改性 。实验结果表 明,改性层厚
度达到 15“m;在直径 2.04m范围内,膜层厚度均匀性优于 ±2.5 ;表面粗糙度 由直接抛光 的5.64nm(RMS)降低到
0.78nm。由此说 明磁控溅射技术能够用于大 口径 RB-SiC基底 的表面改性,并且改性后大 口径 RB-SiC的性能可以满足
高质量光学系统的要求 。
关 键 词 :光学加工 ;磁控溅射 ;表面改性 ;RB-SiC;大 口径
中圈分类号:0484.1;TN307 文献标识码 :A doi:10.3788/OPE1557
Surfacemodificationof2m RB-SiC substratebymagnetronsputtering
LIU Zhen ,GAO Jin-song,LIU Hal,WANG Xiao—yi,WANG Tong—tong
(KeyLaboratoryofOpticalSystemAdvancedManufacturingTechnology,
ChangchunInstituteofOptics,FineMechanicsandPhysics,
ChineseAcademyofSciences,Changchun130033,China)
*C0r】rPs户0咒d gauthor,E-mail:liuzhencl@ 163.com
Abstract:InordertoeliminatethesurfacemicrodefectafterthedirectpolishingofRB-SiC substrate,
reducethesurfaceroughnessandincreasethesurfacequality,Siwasselectedasthemodifiedmaterial
basedonthefeaturesoflargeapertureSiC,wherea2m—levelRB-SiC substratewasmodificatedby
usingthemagnetron sputteringtechnology.Thesiliconfilm wasdepositedbyadeveloped 3.2m
magnetronsputteringcoatingmachine,andtheSiC substratewaspolishedandmodificatedbasedon
thecomputercontrolopticalmoldingmethod.Theresultindicatesthatthethicknessofmodifiedlevel
reaches15Ⅱm;thethicknessuniformityofthefilm levelisbetterthan±2.596/withinthediameterof
2.04 m :the surface roughnessdecreasesfrom 5.64 nm (RM S) to 0.78nm.Thereforea the
magnetronsputteringtechnologycanbeusedinthesurfacemodificationofthelargeapertureRB-SiC,
您可能关注的文档
- 2010年中考梯形.doc
- 2011年超强英语口语资料C.pdf
- 2012全国中国工笔画展复评结果.pdf
- 2012年北京市师大附中九年级上期中试题.docx
- 20140919基础防腐、罐基充水试验设计要求.pdf
- 2014初二上南山期末统考试题.pdf
- 2014届高考物理单元知识章节考点总复习25.ppt
- 2015年06月++七年级数学期末组卷二维码.doc
- 28中国国际救援队_真棒1PPT.ppt
- 3-7 化学分析(沉淀平衡).pdf
- 2025年休闲食品健康化转型下的市场拓展策略与渠道创新报告[001].docx
- 农村电商服务站品牌建设:2025年运营模式创新与品牌传播报告.docx
- 2025年互联网金融平台合规整改与金融科技监管的合规监督与可持续发展策略.docx
- 2025年短视频平台内容监管与平台社会责任关系研究报告.docx
- 农产品溯源体系在农产品质量安全监管中的信用体系构建与实施策略研究.docx
- 2025年工业互联网平台数据备份与恢复策略创新方案探讨.docx
- 2025年线上法律咨询服务平台法律咨询行业竞争策略研究.docx
- 农业产业集群农产品流通体系构建与发展机制报告.docx
- 智能制造领航者:2025年3D打印技术在规模生产中的应用效果分析报告[001].docx
- 农村金融服务创新与农村金融消费者权益保护法规实施效果分析报告.docx
文档评论(0)