ZnO 之薄膜的第三阶非线性折射率.PDF

屏東教育大學學報-理工類 第三十期 年 月 頁 － 2009 9 39 48 ZnO 之薄膜的第三階非線性折射率 許慈方 謝裕華 胡裕民 摘要 由於氧化鋅薄膜的寬能隙與高束縛能 ，近年來 ，它已經是一個應 用性極大的半導體材料 。同時 ，由於氧化鋅薄膜的透光性 ，所以其光 學特性的研究與應用也日益重要 。我們利用 RF -magnetron 的方式 ， 在氧化鋁基板上濺鍍氧化鋅薄膜 ，利用反射式掃瞄法 （RZ - scan ）， 研究此樣品之第三階非線性折射率 （n2 ）。由此量測系統得到之樣品 的移動位置與相對應的反射光強度之曲線圖中，顯示氧化鋅薄膜的第 三階非線性折射率為負值。並由量測到之反射光強度與入射光強度等 數值 ，計算求得其n2 為6.16 10-4 。此外 ，由實驗中 ，還發現在低入射 光強度的範圍內，第三階非線性折射率的數值與入射光強度成正比關 係 。 關鍵詞 ：反射式掃瞄法 、第三階非線性折射率 、氧化鋅薄膜 許慈方 ：國立屏東教育大學應用物理系助理教授 謝裕華 ：國立中央大學照明與顯示科技研究所研究生 胡裕民 ：國立高雄大學應用物理系副教授 投稿日期 ：2009 年05 月28 日，接受日期 ：2009 年06 月30 日 4 0 屏東教育大學學報-理工類 第三十期 The Third Order Nonlinear Refractive Index of ZnO Film by RZ-scan Tzu-Fang Hsu X. H. Xie Y. M. Hu Abstract The third order nonlinear refractive index n2 has been experimentally observed in ZnO film. which were deposited on the substrates of sapphire, Al2O3 (0001). We determined the third order nonlinear refractive index n2 by using the reflection Z-scan (RZ-scan) technique, in which the reflectance R relative to the location of sample and intensity of incident beam I0 were measured. As nonlinear refractive index exists, the reflectance at the vicinity of X=1 significantly dropped because of the effect of self-defocusing. In this work, we evaluate the values n2 of ZnO thin film 6.16 10-4 . Furthermore, we also found that the value of n2 is linearly dependent on the intensity of incident beam with lower power. Keywords ：RZ-scan, third order nonlinear refractive index, ZnO Tzu-Fang Hsu: Assistant Professor, Department of Applied Physics, National PingTung University of Education X. H. Xie: Graduated student, Institute of Lighting and Display Science National Central University, D