第三章 薄膜屋里气相沉积.pptVIP

第三章 薄膜的屋里气相沉积（;引言溅射法定义利用带电离子在电;溅射镀膜的特点 （1）对于;一、辉光放电的物理基础靶材是需;直流溅射趁机装置的制图忱精兰遍;4.2 物质的溅射现象合金的溅;一、直流溅射装置及特性溅射气压;一、直流溅射装置及特性工作原理;一、直流溅射装置及特性气体压强;二、射频溅射装置及特性射频电源;二、射频溅射装置及特性工作原理;二、射频溅射装置及特性电源与电;三、磁控溅射装置及特性磁场的作;三、磁控溅射装置及特性秃帅颊砚;三、磁控溅射装置及特性需筐砰侮;三、磁控溅射装置及特性驱广釜饰;4.3 溅射沉积装置四、反应溅;四、反应溅射装置及特性那扶绕再;四、反应溅射装置及特性桅捌遏范;四、反应溅射装置及特性采用纯金;4.3 溅射沉积装置五、偏压溅;溅射制备的Ta薄膜的电阻率随偏;六、离子束溅射在离子束溅射沉积;六、离子束溅射咆串??苛牙隙症蜂;六、离子束溅射秒驰扭揣闽砧焰鸵;模板提供者啤斩卢损小夏夕投崇慨;谢谢观赏WPS OfficeM