Si3N4—Si3N4陶瓷连接的研究进展.docxVIP

Si3N4/Si3N4陶瓷连接的研究进展周飞陈静罗启富李志章(浙江大学杭州310027)(江苏理工大学)(浙江大学)摘 要:本文综述了Si3N4/Si3N4 陶瓷连接的研究现状,论述不同连接工艺对接头强度的影响。关键词:Si3N4 ,连接,弯曲强度1.引言氮化硅(Si3N4) 陶瓷具有一系列优异的物理、化学及力学性能,是发展十分迅速的一类新型高温结构材料。然而,其固有的脆性导致极小的临界裂纹,增大了陶瓷构件在制作加工中的难度,妨碍了其在工程结构中的应用。为了扩大陶瓷的应用范围,必须解决陶瓷的接合问题。陶瓷的接合,特别是陶瓷与金属的接合〔1〕,已成为近几十年研究的对象。然而,随着氮化硅陶瓷作为热机高温结构材料的计划日趋接近,Si3N4/Si3N4陶瓷的连接研究,已成为人们关注的方向。有效的陶瓷连接,不仅有利于制备形状复杂的各种构件,而且还能改善陶瓷的可靠性,将对陶瓷的精密制造,产生深远的影响。在文献〔2〕中,我们论述了Si3N4/金属连 接的研究现状。现在,本文主要综述Si3N4/Si3N4陶瓷连接的研究现状,论述不同连接工艺对接头强度的影响。2.活性钎焊活性钎焊是利用钎料中所含有的少量活性元素(如Ti、Zr),与陶瓷反应,形成被钎料浸润的反应层,实现陶瓷/陶瓷(金属)的化学接合。氮化硅陶瓷是一种共价键化合物,不同于离子键组成的氧化物陶瓷,其连接研究在某种程度上,远不及氧化物陶瓷的