抛光铜箔衬底上石墨烯生长资料.pdfVIP

第4l卷第2期 人 工 晶 体 学 报 v01．41N。．2 一：垫!!型 一 塑堕堕塑些Q￡!!堕!望旦!￡鱼堕堡坠堡 垒迦!：垫!兰 抛光铜箔衬底上石墨烯可控生长的研究 孙雷1，沈鸿烈1’，吴天如1，刘斌1，蒋烨1 (1，南京航空航天大学材料科学与技术学院，南京211100； 2．南京航空航天大学纳米智能材料器件教育部重点实验室，南京210016) 摘要：本文报导以固态聚苯乙烯为碳源，经机械抛光和电化学抛光双重处理的铜箔为衬底，用CVD法进行石墨烯可控生 长的研究结果。用光学显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、光透射谱、扫描隧道显微镜和场发射扫描电镜对生长的石墨烯 进行了表征。研究发现经过抛光处理的铜箔由于其平整的表面和很低的表面粗糙度，在其上生长的石墨烯缺陷少，结晶 质量高。而未经抛光处理的铜箔在石墨烯生长过程中，铜箔不平整的表面台阶会破坏其上生长的石墨烯的微观结构，在 生长的石墨烯二维结构中产生高密度晶界和缺陷。还在双重抛光处理的铜箔上实现了石墨烯的层数可控生长，结果表明 固态碳源聚苯乙烯的量为15-ng时可生长出单层石墨烯，通过控制固态源重量得到了l一5层大面积石墨烯。 关键词：固态碳源；机械抛光；电化学抛光；石墨烯；可控生长 中图分类号：TQl27 文献标识码：A ResearchonControlledGrowthof Graphene onPolished Substrate Copper SUN Yel Leil，SHENHong．如1”，WUTian-Ⅲ1，ⅡUBinl，JIANG ofMaterials ofAeronautics (1．College Science＆Technology，N蚰jingUniversity 211100，China；2，KeyLaboratory andAstronautiCs，N蛐jlag andDevices ofAeronauticsand forIntelligentNanoMaterialsoftheMinistryofEducation，NanjingUniversity 210016，China) Astronautics，Na．ii“g 28November201 3 (Received 2012) 1，acceptedFebruary article the of chemical Abstract：7ms reportsgrowthlayer·controlledgrapheneby vapordeposition，I|sing solid as and as thecarbonsolll℃e the foil thesubstrate．Thewas polystyrene