磁控溅射cw纳米多层膜的微观结构分析 microstructure of cw multilayered films prepared by magnetron sputtering.pdfVIP

第29卷第4期 电子显微学报 V01．29．No．4 2010年8月 ofChineseElectron 2010-08 Journal MicroscopySociety 文章编号：1000-6281(2010)04-0328-05 磁控溅射C／W纳米多层膜的微观结构分析 陈迪春1，蒋百灵2，时惠英2，付杨洪2 (西安理工大学1．现代分析测试中心，2．材料科学与工程学院，陕西西安710048) 摘要：利用非平衡磁控溅射离子镀技术以纯钨靶和纯石墨靶作为溅射源制备了C／W纳米多层膜。采用x射线 了分析。结果表明：w含量约为9 at．％的C／W薄膜具有周期厚度约为6．5nm的多层结构；沉积的w元素不以单 质态存在，而是与碳元素反应生成了WC纳米晶；薄膜中的碳为非晶态，碳主要以sp2键类石墨态存在。 关键词：磁控溅射；C／W多层膜；TEM；XPS